[发明专利]防反射膜、防反射膜的制造方法、光学构件及图像显示装置

权利要求书

1.一种防反射膜，其特征在于，其包含透光性基材(A)、硬涂层(B)和防反射层(C)，

在所述透光性基材(A)的至少一个面上依次层叠有所述硬涂层(B)及所述防反射层(C)，

构成所述防反射层(C)的元素至少包含碳及氟，

通过X射线光电分光法而测定的所述防反射层(C)的原子数在与所述硬涂层(B)相反侧的表面满足下述数学式(1)及(2)，并且在距离所述表面的深度为15～30nm的范围内满足下述数学式(3)，

7≤[(n_F/n_total)×100]≤27 (1)

30≤[(n_c/n_total)×100]≤41 (2)

[(n_F/n_total)×100]≤0.5 (3)

其中，所述数学式(1)～(3)中，n_total为碳、氮、氧、硅及氟的原子数的合计，n_F为氟原子数，n_c为碳原子数。

2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述硬涂层(B)为防眩性硬涂层。

3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，所述防反射层(C)包含空心粒子及实心粒子。

4.根据权利要求3所述的防反射膜，其中，所述空心粒子及所述实心粒子为二氧化硅粒子。

5.权利要求1～4中任一项所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，其包括在所述透光性基材(A)与所述硬涂层(B)的层叠体中的所述硬涂层(B)上按照满足所述数学式(1)～(3)的方式形成所述防反射层(C)的防反射层(C)形成工序，

所述防反射层(C)形成工序包括在所述硬涂层(B)上涂装防反射层形成用涂装液的涂装工序和使所涂装的所述防反射层形成用涂装液干燥而形成涂膜的涂膜形成工序，

所述防反射层形成用涂装液包含树脂、含氟元素添加剂和稀释溶剂。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述防反射层(C)形成工序进一步包括使所述涂膜固化的固化工序。

7.根据权利要求5或6所述的制造方法，其中，所述稀释溶剂包含甲基异丁基酮(MIBK)及丙二醇单甲醚乙酸酯(PMA)。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其中，所述稀释溶剂进一步包含叔丁醇(TBA)。

9.根据权利要求5或6所述的制造方法，其中，所述防反射膜为权利要求3或4所述的防反射膜，

所述防反射层形成用涂装液进一步包含所述空心粒子及所述实心粒子。

10.根据权利要求7所述的制造方法，其中，所述防反射膜为权利要求3或4所述的防反射膜，

所述防反射层形成用涂装液进一步包含所述空心粒子及所述实心粒子。

11.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述防反射膜为权利要求3或4所述的防反射膜，

所述防反射层形成用涂装液进一步包含所述空心粒子及所述实心粒子。

12.一种光学构件，其包含权利要求1～4中任一项所述的防反射膜。

13.根据权利要求12所述的光学构件，其为偏振片。

14.一种图像显示装置，其包含权利要求1～4中任一项所述的防反射膜或权利要求12或13所述的光学构件。