[发明专利]防反射膜、防反射膜的制造方法、光学构件及图像显示装置

说明书

本发明提供耐擦伤性优异的防反射膜。其特征在于，在透光性基材(A)的至少一个面上以下述顺序层叠有硬涂层(B)及防反射层(C)，构成防反射层(C)的元素至少包含碳及氟，通过X射线光电分光法而测定的防反射层(C)的原子数在与硬涂层(B)相反侧的表面满足下述数学式(1)及(2)，并且在距离上述表面的深度为15～30nm的范围内满足下述数学式(3)，7≤[(n_F/n_total)×100]≤27 (1);30≤[(n_c/n_total)×100]≤41 (2);[(n_F/n_total)×100]≤0.5 (3);其中，n_total为碳、氮、氧、硅及氟的原子数的合计，n_F为氟原子数，n_c为碳原子数。

技术领域

本发明涉及防反射膜、防反射膜的制造方法、光学构件及图像显示装置。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)及电致发光显示器(ELD)等图像显示装置的最表面，为了防止因外界光的反射或图像的映入而引起的对比度降低，使用了防眩性膜或防反射膜等。有许多对于防反射膜记载的文献，例如有专利文献1～3等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-34002号公报

专利文献2：日本特开2003-315505号公报

专利文献3：日本特开2003-126768号公报

发明内容

发明所要解决的课题

从良好的光学特性的观点出发，防反射膜需要不易损伤、即耐擦伤性优异。然而，防反射膜表面容易损伤，难以得到优异的耐擦伤性。

于是，本发明的目的是提供耐擦伤性优异的防反射膜。进而，本发明的目的是提供上述防反射膜的制造方法、使用了上述防反射膜的光学构件、使用了上述防反射膜的图像显示装置。

用于解决课题的手段

为了达成上述目的，本发明的防反射膜的特征在于，其包含透光性基材(A)、硬涂层(B)和防反射层(C)，

在上述透光性基材(A)的至少一个面上按照上述顺序层叠有上述硬涂层(B)及上述防反射层(C)，

构成上述防反射层(C)的元素至少包含碳及氟，

通过X射线光电分光法而测定的上述防反射层(C)的原子数在与上述硬涂层(B)相反侧的表面满足下述数学式(1)及(2)，并且在距离上述表面的深度为15～30nm的范围内满足下述数学式(3)。

7≤[(n_F/n_total)×100]≤27 (1)

30≤[(n_c/n_total)×100]≤41 (2)

[(n_F/n_total)×100]≤0.5 (3)

上述数学式(1)～(3)中，n_total为碳、氮、氧、硅及氟的原子数的合计，n_F为氟原子数，n_c为碳原子数。

本发明的防反射膜的制造方法为上述本发明的防反射膜的制造方法，其特征在于，包括在上述透光性基材(A)与上述硬涂层(B)的层叠体中的上述硬涂层(B)上按照满足上述数学式(1)～(3)的方式形成上述防反射层(C)的防反射层(C)形成工序，