[发明专利]产生极紫外光辐射的装置在审
申请号: | 201910760768.1 | 申请日: | 2019-08-16 |
公开(公告)号: | CN110837209A | 公开(公告)日: | 2020-02-25 |
发明(设计)人: | 谢劼;陈冠宏;许峻嘉;简上傑;刘柏村;陈立锐;郑博中 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 紫外 光辐射 装置 | ||
一种产生极紫外光(Extreme Ultraviolet;EUV)辐射的装置,此装置包含液滴产生器、激发激光、能量侦测器与反馈控制器。液滴产生器是配置以产生目标液滴。激发激光是配置以使用激发脉冲加热此些目标液滴,以将目标液滴转换为电浆。当目标液滴转换为电浆时,能量侦测器是配置以量测极紫外光能量中所产生的变化。反馈控制器是配置以基于极紫外光能量中的变化来调整液滴产生器及/或激发激光的参数。
技术领域
本揭露的一实施例是有关一种产生极紫外光辐射的装置与方法,且特别是提供一种可产生稳定的极紫外光辐射的装置与方法。
背景技术
运算能力的需求已倍数成长。这种运算能力的增加可以通过增加半导体集成电路(Integrated Circuits;ICs)的功能密度(即每个晶片上内连接装置的数目)来实现。随着功能密度的增加,晶片上各个装置的尺寸已缩小。随着如微影(lithography)的半导体制造技术的进步,集成电路中的组件尺寸的缩小已可得到满足。
举例而言,微影所使用的辐射波长已由紫外光减小到深紫外光(DeepUltraviolet;DUV),再到最近的极紫外光范围。组件尺寸的进一步缩小需要微影的解析度的进一步改善,且此可以使用极紫外微影(EUV Lithography;EUVL)来实现。极紫外微影使用波长实质为1nm至100nm的辐射。
一种极紫外光辐射的产生方法是激光激发电浆(Laser-produced Plasma;LPP)。在基于激光激发电浆的极紫外光光源中,高功率激光束是聚焦于小的锡液滴目标上,以形成高度离子化电浆,其中此高度离子化电浆发射出具有峰值最大发光于13.5nm的极紫外光辐射。通过激光激发电浆所产生的极紫外光辐射的强度取决于通过高功率激光从液滴目标产生电浆的有效性。基于极紫外光辐射光源,高功率激光的脉冲与液滴目标的生成与运动的同步可改善激光激发电浆的效率。
发明内容
根据本揭露的一些实施例,本揭露的一实施例揭示一种产生极紫外光(ExtremeUltraviolet;EUV)辐射的装置。此装置包含液滴产生器、激发激光、能量侦测器与反馈控制器。液滴产生器是配置以产生多个目标液滴。激发激光是配置以使用多个激发脉冲来加热此些目标液滴,以转换目标液滴为电浆。能量侦测器是配置以量测极紫外光能量中的变化,其中极紫外光能量是于此些目标液滴转换为电浆时所产生。反馈控制器是配置以基于极紫外光能量中的变化,来调整液滴产生器或激发激光的至少一者的参数。
附图说明
从以下结合所附附图所做的详细描述,可对本揭露的一实施例的态样有更佳的了解。需注意的是,根据业界的标准实务,各特征并未依比例绘示。事实上,为了使讨论更为清楚,各特征的尺寸可任意地增加或减少。
图1是根据本揭露的一些实施例所建构的极紫外光微影系统的示意图,其中此极紫外光微影系统具有激光激发电浆(Laser Produced Plasma;LPP)极紫外光辐射光源;
图2A绘示于目标液滴在X-Z平面被预脉冲照射后,目标液滴相对于收集器的运动;
图2B、图2C、图2D与图2E绘示目标液滴通过预脉冲于X-Y平面的运动;
图3A绘示根据本揭露的一些实施例的多个被优化的参数;
图3B绘示多个被再优化的关键绩效指标(Key Performance Indicators;KPIs);
图4显示根据本揭露的一些实施例的用以产生分类目标机率地图的装置的示意图;
图5A、图5B、图5C、图5D与图5E显示根据本揭露的一实施例的产生分类目标机率地图的示意图;
图6绘示基于布林输出的格式的分类目标机率地图;
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