[发明专利]一种触摸屏制备方法在审
| 申请号： | 201910760827.5 | 申请日： | 2019-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN110502148A | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 胡川 | 申请（专利权）人： | 芜湖伦丰电子触摸屏产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 34138 芜湖思诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑直<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 241000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溴化银 大尺寸触摸屏 导电线 膜材 打印 触摸屏制备 对视觉效果 透明导电膜 导电膜膜 导电图案 纳米银膜 曝光显影 铜线 触摸屏 单质银 纳米级 网格线 银单质 印制板 再利用 溴单质 绑定 方阻 浆料 丝印 贴合 制备 分解 曝光 制作 转化 生产 | ||
1.一种触摸屏制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成2～5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度根据方阻以及透光效果所需调整；
(2)把溴化银膜材经过曝光，然后再经过水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材；
(3)利用干法或者湿法的蚀刻工艺蚀刻线路和边缘银浆走线，通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；
(4)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷光学胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。
2.根据权利要求1中所述的一种触摸屏制备方法，其特征在于：所述干法的蚀刻方式为光斑直径0.035mm的激光镭射蚀刻，所述湿法蚀刻方式为一次黄光工艺。
3.根据权利要求1中所述的一种触摸屏制备方法，其特征在于：所述溴化银浆料由透明光学胶和溴化银组成，溴化银浓度为20～50wt％。
4.根据权利要求3中所述的一种触摸屏制备方法，其特征在于：所述曝光强度为1000～10000Lx，曝光时间30～60s。
5.根据权利要求1中所述的一种触摸屏制备方法，其特征在于：所述网格的密度与方阻和透光效果均成反比。
6.一种触摸屏，其特征在于，由权利要求1～5中任一项所述一种触摸屏制备方法制备获得。
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