[发明专利]一种触摸屏制备方法

说明书

本发明公开了一种触摸屏制备方法，包括溴化银凹印制板，曝光显影，丝印导电图案，组合，绑定，贴合等步骤，本发明通过将纳米级溴化银浆料凹印导电膜膜材后制备溴化银膜材，再利用溴化银曝光分解为银单质和溴单质的作用，将溴化银膜材转化为由单质银网格线组成的透明导电膜材，相对于纳米银膜材和ITO膜材，显著降低触摸屏方阻，相较3D打印打印铜线，则可显著降低导电线的宽度，降低大尺寸触摸屏制作时导电线过粗对视觉效果产生的影响，并可降低大尺寸触摸屏生产的成本。

技术领域

本发明涉及触控技术领域，特别涉及一种触摸屏制备方法。

背景技术

目前，在触控领域，其中重要的一种触摸屏结构就是“盖板+膜结构”，特别是在大尺寸(43寸以上)，而在曲面屏上更是只有这种结构；目前所用的膜材有：ITO、纳米银、金属网格铜和3D打印铜线。简单说一下目前以上几种膜材情况：

ITO膜材，方阻基本做到80Ω以上，适合用于小于20寸的触摸屏；

纳米银膜材，用的是纳米级的银丝，涂布成网状的形式；方阻最低只可做到30Ω，用于目前大尺寸产品，但成本相对于3D打印铜线偏高。

3D打印铜线，利用3D打印的技术，根据触摸所需打印出所需的铜线，拥有成本低，方阻低的优势，但目前可以做到最细的铜线约8μm以上，常规是12μm；这么粗的铜线是人肉眼容易看到(人眼可辨识的宽度约6μm左右)，从而影响整机外观效果。

金属网格铜，用的是铜模，经过曝光、显影工艺形成纳米级网状铜丝；然后再根据触摸所需蚀刻成对应的触摸通道，拥有同纳米银一样的外观看不见金属线、方阻低的优势；但金属网格铜成本比纳米银更加高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题：利用溴化银的技术，做到比纳米银膜材更低的成本和方阻，同时又不会出现3D打印铜线那样的影响外观效果的问题，在不影响使用者外观效果，实现降低成品，提高触摸功能体验效果。

为解决上述技术问题，本发明提供以下的技术方案：

一种触摸屏制备方法，具体步骤如下：

(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成2～5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度根据方阻以及透光效果所需调整；

(2)把溴化银膜材经过曝光，然后再经过水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材；

(3)利用干法或者湿法的蚀刻工艺蚀刻线路和边缘银浆走线，通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；

(4)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷光学胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。

优选地，所述干法的蚀刻方式为光斑直径0.035mm的激光镭射蚀刻，所述湿法蚀刻方式为一次黄光工艺。

优选地，所述溴化银浆料由透明光学胶和溴化银组成，溴化银浓度为20～50wt％。

优选地，所述曝光强度为1000～10000Lx，曝光时间30～60s。

优选地，所述网格的密度与方阻和透光效果均成反比。

一种触摸屏，由上述一种触摸屏制备方法制备获得。

本发明获得的有益效果：