[发明专利]一种复合介电钝化层结构太阳电池及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 201910763130.3 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110459615A 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 王岚;张忠文;杨蕾;谢毅;苏荣 申请(专利权)人: 通威太阳能(成都)有限公司;通威太阳能(安徽)有限公司;通威太阳能(眉山)有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/04;H01L31/18
代理公司: 53113 昆明合众智信知识产权事务所 代理人: 邓黎<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 610299四川省成都市双流*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电池 叠层结构 复合介电 背表面 钝化层 衬底 光衰 氮化硅或氮氧化硅 沉积氧化硅膜 制备工艺步骤 三氧化二铝 氮氧化硅 二氧化硅 介电膜层 类单晶硅 氧化铝膜 制备工艺 电极 氮化硅 反射率 膜钝化 膜复合 全表面 热辅助 折射率 掺硼 导出 钝化 开窗 制备 制作 背面 兼容 复合 制造 表现
【说明书】:

发明公开了一种复合介电钝化层结构太阳电池及其制备工艺,在P型硅衬底的正、背面及周边全表面依次沉积氧化硅膜、氧化铝膜、氮化硅或氮氧化硅膜复合介电膜层,并在局部开窗进行电极导出。本发明的三氧化二铝、二氧化硅、氮氧化硅、不同折射率氮化硅及其叠层结构的背表面钝化层,大大降低了背表面复合速率,提高背反射率,同时降低组件CTM,提高电池光衰及热辅助光衰表现、抗PID性能;可以用作掺硼或掺镓的P型单晶硅、P型多晶硅和P型类单晶硅衬底上制作该结构,且可兼容制造PERC电池、双面PERC+电池和叠瓦PERC电池等基于该复合介电膜钝化结构的钝化方法;该叠层结构的制备工艺步骤及顺序、相应制备方式及工艺参数范围,可以很好的完成电池制作。

技术领域

本发明涉及PERC太阳电池技术领域,具体为一种复合介电钝化膜层结构的太阳电池及其制备工艺。

背景技术

光伏发电是通过半导体的光生伏打效应将太阳光能直接转化为电能,减少能源转换间的消耗损失,再将所发电力供给用户使用的一种有效利用太阳能的方式。光伏发电可以降低石化能源使用比例,从而减少碳排放,改善环境,通过十多年技术追赶已逐步成为可与欧美、日等发达国家相匹敌的新兴战略制造业;同时光伏发电也是国家的精准扶贫方式之一,通过“光伏扶贫”项目给更多边远贫困、缺乏电力山区提供清洁电力及售电收益。但由于当前光利用率偏低和技术路线、设备辅材成本居高,光伏发电还不能达到与传统化石能源相同的度电成本及售价,光伏电力只有降低度电成本、提高能源转换效率才能扩大应用范围,实现“平价上网”的终极目标。而如何实现光伏所发电力平价上网,以实现能源获取方式本质上的变更,成为光伏普及应用的关键性挑战。其实现的主要路径是提高太阳电池光电转换效率,并维持长期可持续的稳定发电量,这需通过前期大量的产品研发、技术升级以逐步提高,同时兼顾降低整个产业链制造端成本。

过去20年传统BSF太阳电池制备工艺流程如说明书附图3所示,经过不断的正面发射结工艺配方改进,金半接触导出电极工艺升级,绒面制备方式和设备改造,如选择性发射结、高阻密栅、黑硅、DP等可量产化技术叠加可实现0.8%-1.1%效率提升。但传统BSF太阳电池背表面浓铝掺杂所形成铝背场,由于金属和半导体直接接触始终是有效的复合中心,背表面的复合电学损失和长波光学损失一直存在。为了解决此结构设计问题,国内外各大研究机构专注于高效电池表面的钝化处理和结构改进,如PERC、HJT、IBC、TopCon电池设计原理均着眼于减少界面层载流子复合,提高各波段光电转换量子效率为主,这将使太阳电池光电转换效率获得较大提升。其中PERC电池可以大幅提高太阳电池的光电转换效率,可兼容现有的电池生产线。通过产品设计和工艺优化,引入背面钝化和激光设备,选择性引入清洗设备,即可提升电池绝对光电转换效率值1.0%-1.5%,进而提高光伏电池板的瓦数,在户外实际发电测试的PERC单晶组件实际发电量比常规多晶组件发电量高3.1%左右,从而降低每度电成本,为光伏平价上网做出贡献。

钝化发射极及背局域接触电池PERC技术通过在电池的背面引入一个电介质钝化层来降低载流子的复合,从而提高器件的开路电压,增加背表面反射,提高短路电流。该工艺可以提高单晶硅电池的转换效率达1.5%绝对值,工艺路径相对简单,成本收益大,完全兼容现有的电池生产线。其中,选择适用于工业化高效硅太阳电池的钝化膜至关重要。该膜层应当在相对低温制备,不破坏内部已成形电池的微观化学键和材料特性,并与实验室热氧化的SiO2具有可比拟的钝化性能。近年来,通过不断积累尝试发现带负电荷的氧化铝介电膜可以很好的钝化P型硅表面,获得较低的表面复合速率,在低电阻率P型硅上已经证明了利用低温等离子的ALD其SRVs<13cm/s;且氧化铝薄膜可以在较低的温度实现沉积,普遍低于实验室SiO2沉积温度,与产业已应用钝化减反射保护膜层SixNy沉积温度相当,或者更低。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通威太阳能(成都)有限公司;通威太阳能(安徽)有限公司;通威太阳能(眉山)有限公司,未经通威太阳能(成都)有限公司;通威太阳能(安徽)有限公司;通威太阳能(眉山)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910763130.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top