[发明专利]用于沉积源的非接触输送的装置和方法

权利要求书

1.一种用于垂直基板处理的用于非接触式地运输沉积源(120)的设备(100)，包括：

沉积源组件(110)，包括：

所述沉积源，其中所述沉积源具有在实质垂直方向上延伸的线性形状；及

第一主动磁性单元(150)；以及

引导结构(170)，所述引导结构(170)在源运输方向上延伸，其中所述沉积源组件沿所述引导结构是可移动的；

其中，所述第一主动磁性单元经构造以用于产生与所述引导结构(170)的磁性相互作用的磁场，以提供第一磁浮力(F1)以悬浮所述沉积源组件；以及

磁驱动系统，所述磁驱动系统经构造以用于沿所述引导结构在所述源运输方向上非接触式地运输所述沉积源组件。

2.根据权利要求1所述的设备，更包括控制器(580)，所述控制器(580)经构造以用于控制所述第一主动磁性单元以在垂直方向(Y)上对准所述沉积源。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述沉积源为蒸发源(1100)。

4.根据权利要求3所述的设备，其中：

所述蒸发源包括两个或更多个蒸发坩埚；或者

所述蒸发源包括蒸发坩埚(1110)和分配管(1120)，所述分配管(1120)具有多个开口或喷嘴(1130)。

5.根据权利要求1-4任一项所述的设备，其中所述第一主动磁性单元是从由以下项所组成的群组中选择的：电磁装置、螺线管、线圈、超导磁体及上述项的任意组合。

6.根据权利要求1-4任一项所述的设备，其中所述引导结构由磁性材料制成。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述引导结构由铁磁材料制成。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述磁驱动系统包括被动磁性单元和主动磁性单元，所述被动磁性单元位于所述引导结构处，所述主动磁性单元位于所述沉积源组件处或位于所述沉积源组件内。

9.根据权利要求1所述的设备，进一步包括连接至所述磁驱动系统的控制器，以控制所述沉积源组件的速度。

10.一种用于垂直基板处理的用于非接触式地悬浮沉积源(120)的设备，所述设备包括：

沉积源组件(110)，包括：

沉积源，所述沉积源具有在实质垂直方向上延伸的线性形状；

第一主动磁性单元(150)，设置于所述沉积源组件的第一侧；及

第二主动磁性单元(554)，设置于所述沉积源组件的第二侧；

其中，所述第一主动磁性单元和所述第二主动磁性单元经构造以用于产生与在源运输方向上延伸的引导结构(170)的磁性相互作用的各自的磁场，以磁性地悬浮所述沉积源组件；以及

磁驱动系统，所述磁驱动系统经构造以用于在所述源运输方向上非接触式地运输所述沉积源组件。

11.根据权利要求10所述的设备，进一步包括控制器(580)，所述控制器(580)经构造以单独控制第一磁浮力(F1)和第二磁浮力(F2)以角对准所述沉积源，其中

所述第一磁浮力(F1)由所述第一主动磁性单元产生的磁场和所述引导结构的所述磁性之间的相互作用提供，并且

所述第二磁浮力(F2)由所述第二主动磁性单元产生的磁场和所述引导结构的所述磁性之间的相互作用提供。

12.根据权利要求10或11所述的设备，其中所述沉积源为蒸发源(1100)。

13.根据权利要求12所述的设备，其中：

所述蒸发源包括两个或更多个蒸发坩埚；或者

所述蒸发源包括蒸发坩埚(1110)和分配管(1120)，所述分配管(1120)具有多个开口或喷嘴(1130)。