[发明专利]用于沉积源的非接触输送的装置和方法

说明书

提供一种用于非接触式运输沉积源的设备。设备包括沉积源组件。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括第一主动磁性单元。设备包括在源运输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿引导结构是可移动的。第一主动磁性单元与引导结构经构造以用于提供第一磁浮力以悬浮沉积源组件。

本申请是申请日为2016年5月18日、申请号为201680085495.X、发明名称为“用于运输沉积源的设备和方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明有关于一种用于运输沉积源的设备及方法。更具体而言，此沉积源是用于大面积基板上的层沉积(layer deposition)的沉积源。

背景技术

基板上的层沉积的技术包括，例如，使用有机发光二极管(OLED)的有机蒸镀(organic evaporation)、溅射沉积(sputtering deposition)以及化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)。可使用沉积工艺以沉积材料层于基板上，例如绝缘材料层。

举例来说，例如在显示器制造技术中，会考虑使用涂布工艺(coating process)以用于大面积的基板。为了涂布大面积的基板，可提供可移动的沉积源。可沿基板运输此沉积源，同时喷射出待沉积于基板上的材料。因此，可通过移动沉积源来涂布基板的表面。

层形成工艺中的持续问题为对于沉积层的更高均匀度和纯度的不断增加的需求。在此方面，出现许多挑战于涂布工艺中，其中沉积源在沉积工艺中被运输一段距离。

有鉴于此，需要一种能够提供在层沉积工艺期间的改进的沉积源运输控制的设备。

发明内容

根据一个实施方式，提供一种用于非接触式地运输沉积源的设备。设备包括沉积源组件。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括第一主动磁性单元。设备包括在源运输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿引导结构是可移动的。第一主动磁性单元与引导结构经构造以用于提供第一磁浮力以悬浮沉积源组件。

根据一个实施方式，提供一种用于非接触式地悬浮一沉积源的设备。设备包括沉积源组件，沉积源组件具有第一平面，第一平面包含沉积源组件的第一旋转轴。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括设置于第一平面的第一侧的第一主动磁性单元。沉积源组件包括设置于第一平面的第二侧的第二主动磁性单元。第一主动磁性单元和第二主动磁性单元经构造用于磁性地悬浮沉积源组件，且经构造以用于使沉积源组件绕着第一旋转轴旋转以对准沉积源。

根据一个实施方式，其可与本文所述的其它实施方式组合，提供一种用于非接触式地对准沉积源的方法。方法包括产生可调整的磁场以悬浮沉积源。方法包括控制可调整的磁场以对准沉积源。

根据一个实施方式，其可与本文所述的其它实施方式组合，提供一种用于非接触式地对准沉积源的方法。方法包括提供第一磁浮力和第二磁浮力以悬浮沉积源。第一磁浮力与第二磁浮力间隔开来。方法控制第一磁浮力和第二磁浮力中的至少一者以对准沉积源。

附图说明

可通过参考实施方式来获得上文所简要概述的本公开内容的更详细的描述，使得本公开内容的上述特征能够被详细了解。所附附图涉及本公开内容的实施方式且说明如下：

图1示出根据本发明实施方式所述的用于非接触式地悬浮沉积源的设备的侧视示意图；

图2-4示出根据本发明实施方式所述的用于非接触式地悬浮沉积源的设备的前视示意图；

图5-8示出根据本发明实施方式所述的用于非接触式悬浮的设备的示意图；

图9a-9d示出根据本发明实施方式所述的具有磁性单元的源支撑件(sourcesupport)的示意图。

图10-11示出根据本发明实施方式所述的沉积源的示意图。