[发明专利]提供光刻系统射线的设备在审
| 申请号： | 201910773199.4 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110865517A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 廖启宏;杨岳霖 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;付文川 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提供 光刻 系统 射线 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种提供光刻系统射线的设备，包括：
一第一衰减单元，包括：
一第一壳体，具有一第一进入口、一第一反射出口、以及一第一透射出口；以及
一第一反射镜，设置于该第一壳体中，其中该第一反射镜被定位以从该第一进入口接收一第一光束，将该第一光束的一第一反射部分反射到该第一反射出口，以及将该第一光束的一第一透射部分传输到该第一透射出口；
一第一光刻机台；以及
一第一光学导管，连接该第一反射出口以及该第一光刻机台，以引导来自该第一衰减单元的该第一光束的该第一反射部分。
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