[发明专利]提供光刻系统射线的设备

说明书

本公开涉及一种提供光刻系统射线的设备。本文描述的实施例提供了一种光刻系统，具有两个或两个以上的光刻机台，连接到使用两个或两个以上的可变衰减单元的射线源。在一些实施例中，可变衰减单元将接收光束的一部分反射到附接到其上的光刻机台，并将接收光束的剩余部分传输到下游的光刻机台。在一些实施例中，射线源包括两个或两个以上的激光源，以提供具有增强的功率水平的激光束，并且可以防止由于激光源维护以及修理的操作中断。

技术领域

本公开实施例有关于一种提供射线的设备及方法，特别是有关于一种提供光刻系统射线的设备及方法。

背景技术

在半导体制造中，使用光刻设备经由选择性地将基板上的光致抗蚀剂层暴露于射线束，而将图案施加到基板上。一般使用激光射线源产生射线束。光刻设备通常配备有一激光射线源。

发明内容

根据本公开的一些实施例，提供一种提供光刻系统射线的设备，包括第一衰减单元、第一光刻机台以及第一光学导管。第一衰减单元包括第一壳体以及第一反射镜，第一壳体具有第一进入口、第一反射出口以及第一透射出口。第一反射镜设置于第一壳体中，其中第一反射镜被定位以从第一进入口接收第一光束，将第一光束的第一反射部分反射到第一反射出口，以及将第一光束的第一透射部分传输到第一透射出口。第一光学导管连接第一反射出口以及第一光刻机台，以引导来自第一衰减单元的第一光束的第一反射部分。

根据本公开的一些实施例，提供一种提供光刻系统射线的设备，包括第一衰减单元以及第二衰减单元。第一衰减单元包括第一进入口、第一反射口、第一透射口以及第一反射镜，第一反射镜被定位以从第一进入口接收第一光束，将第一光束的一部分反射到第一反射口，以及将第一光束的一部分传输到第一透射口。第二衰减单元包括第二进入口、第二反射口、第二透射口以及第二反射镜，第二反射镜被定位以从第二进入口接收第二光束，将第二光束的一部分反射到第二反射口，以及将第二光束的一部分传输到第二透射口。其中第一透射口以及第一反射口中的一个通过光学导管连接到第二进入口。

根据本公开的一些实施例，提供一种提供光刻系统射线的方法，包括将激光光束从射线源引导到连接到第一光刻机台的第一衰减单元；通过第一衰减单元，将激光光束的第一部分引导到第一光刻机台；以及通过第一衰减单元，将激光光束的第二部分引导到连接到第二光刻机台的第二衰减单元。

附图说明

当阅读所附附图时，从以下的详细描述能最佳理解本公开的各方面。应注意的是，不同特征并未一定按照比例绘制。事实上，可任意的放大或缩小不同特征的大小及几何尺寸，以做清楚的说明。

图1是根据一些实施例的光刻系统的示意图。

图2是根据一些实施例的可变衰减组件的示意图。

图3是根据一些实施例的用于进行光刻工艺的方法的流程图。

图4是根据一些实施例的光刻系统的示意图。

其中，附图标记说明如下：

100、400 光刻系统

102a、102b、102n 光刻机台

104a、104b、104n 可变衰减单元

106、410a、410b、410n 激光射线源

108 控制器

110、112、114、116、118、120、122、124 光学导管

130 激光束

132、142 反射镜

134 射线源

136 热等离子体

138 极紫外束