[发明专利]一种绕线式电弧靶装置在审

专利信息
申请号: 201910779632.5 申请日: 2019-08-22
公开(公告)号: CN110408902A 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 朱世元;闫乃明 申请(专利权)人: 深圳市金耀玻璃机械有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219 代理人: 程宇
地址: 518103 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 靶材 装置本体 密封端盖 磁钢组件 连接件 水冷 外周 电弧靶 绕线式 磁钢 镀膜 端头 内周 压紧连接件 动力组件 镀膜生产 经济利益 密封空间 密封设置 生产效率 线圈缠绕 筒状 沉积 粒子 穿过
【权利要求书】:

1.一种绕线式电弧靶装置,其特征在于,包括装置本体(1)、密封端盖(2)和水冷端头(3);

密封端盖(2)设置在装置本体(1)的两端;装置本体(1)的一端穿过密封端盖(2)与水冷端头(3)连接,且水冷端头(3)上设置动力组件(4);

装置本体(1)整体呈圆柱形;装置本体(1)包括靶材层(11)和磁钢组件(12);靶材层(11)设置在磁钢组件(12)的外周;靶材层(11)两端与密封端盖(2)密封设置,以在靶材层(11)内部形成密封空间;

磁钢组件(12)包括连接件(15)、磁钢(14)和线圈(13);连接件(15)呈筒状,连接件(15)设置在靶材层(11)的内周;

线圈(13)缠绕在磁钢(14)的外周,线圈(13)的外周压紧连接件(15)的内周。

2.根据权利要求1所述的绕线式电弧靶装置,其特征在于,装置本体(1)的靶材层(11)为阴极;装置本体(1)位于真空环境内;真空环境内填充经过低压引弧系统电离后的氩气。

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