[发明专利]连续均匀镀膜的调节方法有效
申请号: | 201910779665.X | 申请日: | 2019-08-22 |
公开(公告)号: | CN110373648B | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 方凤军;何建军;崔继文;李会社;杜圣峰 | 申请(专利权)人: | 宜昌南玻显示器件有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/34 |
代理公司: | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人: | 成钢 |
地址: | 443000 湖北省宜*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 连续 均匀 镀膜 调节 方法 | ||
1.一种连续均匀镀膜的调节方法,其特征在于包括以下步骤:
1)通过光度计、椭偏仪或台阶仪测试当前玻璃上各位置的膜层厚度,进而掌握膜厚变化规律;
2)在旋转阴极(1)的A管(101)与CM3腔室边缘处,加装光电感应器(2);光电感应器(2)与控制器电连接,控制器与旋转阴极(1)电连接;
3)当镀膜框架KJ1到达光电感应器(2)的位置时,计时器计时“0”秒,根据掌握的膜厚变化规律,降低或升高A管(101)的转速r;降低转速r会降低溅射率s,从而降低镀膜厚度,升高转速r会增加溅射率s,从而增加镀膜厚度;
4)镀膜框架KJ1继续行驶T1秒后,恢复A管(101)至正常转速r;再经过T2秒后,计时器计时恢复至“0”秒状态;
5)当镀膜框架KJ2到达光电感应器(2)的位置时,根据镀膜框架KJ2行进方向膜厚变化规律,降低或升高A管(101)的转速r;
6)镀膜框架KJ2继续行驶T1秒后,恢复A管(101)至正常转速r;再经过T2秒后,计时器计时恢复至“0”秒状态;
7)重复步骤5)和步骤6),依次完成镀膜框架KJ3至镀膜框架KJN的镀膜。
2.根据权利要求1所述的连续均匀镀膜的调节方法,其特征在于:T1为每个镀膜框架KJ镀膜周期时间。
3.根据权利要求2所述的连续均匀镀膜的调节方法,其特征在于:T2为镀膜框架KJN与下一个镀膜框架KJN+1间隔镀膜时间。
4.根据权利要求3所述的连续均匀镀膜的调节方法,其特征在于:当镀膜框架KJ1达到光电感应器(2)处时,光电信号gd=1;当镀膜框架KJ1完全离开光电感应器(2)时,光电信号gd=0;镀膜框架KJ2达到光电感应器(2)处时,光电信号gd=1;当镀膜框架KJ2完全离开光电感应器(2)时,光电信号gd=0;当镀膜框架KJN到达光电感应器(2)处时,光电信号gd=1。
5.根据权利要求1所述的连续均匀镀膜的调节方法,其特征在于:控制器为PLC。
6.根据权利要求1所述的连续均匀镀膜的调节方法,其特征在于:在步骤3)中,根据转速r、厚度d和溅射率s三个参数的变化规律,总结转速r、厚度d和溅射率s两两之间的函数表达式,推算步骤如下:由于溅射率s等于膜厚d除以功率P,即s=d/P,其中P表示带动镀膜框架KJ移动的驱动装置的功率;
当功率P一定的情况下,膜厚d越大,代表溅射率s越大;整个镀膜过程中保持P为定值,然后取多组膜厚d、溅射率s和转速r三者之间相对应的数据;
以转速r为横坐标,膜厚d为纵坐标,绘制转速r和膜厚d之间的曲线图;然后通过曲线图总结函数关系表达式为d(r)=a1+c1/(r-b1);根据该表达式,取三组试验数据,对a1、b1、c1的数字求解;
以转速r为横坐标,溅射率s为纵坐标,绘制转速r和溅射率s之间的曲线图;然后通过曲线图总结函数关系表达式为s(r)=a2+c2/(r-b2);根据该表达式,取三组试验数据,对a2、b2、c2的数字求解;
在生产过程中,溅射率s或膜厚d是需求的目标,而转速r需要求解;以转速r为横坐标,以膜厚d为纵坐标,绘制膜厚d和转速r之间的曲线图;总结转速r与膜厚d的关系函数为:r(d)=a3+c3/(d-b3);取三组试验数据,对a3、b3、c3的数字求解;这样想要控制膜厚d大小,就可以相应的控制转速r大小来得到。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宜昌南玻显示器件有限公司;中国南玻集团股份有限公司,未经宜昌南玻显示器件有限公司;中国南玻集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910779665.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种长管旋转靶绑定方法
- 下一篇:镀层图形的加工方法
- 同类专利
- 专利分类