[发明专利]连续均匀镀膜的调节方法

说明书

一种连续均匀镀膜的调节方法，通过光度计、椭偏仪或台阶仪测试当前玻璃上各位置的膜层厚度，进而掌握膜厚变化规律；在旋转阴极的A管与CM3腔室边缘处，加装光电感应器；光电感应器与控制器电连接，控制器与旋转阴极电连接；当镀膜框架KJ1到达光电感应器的位置时，计时器计时“0”秒，根据掌握的膜厚变化规律，降低或升高A管的转速r；降低转速r会降低溅射率s，从而降低镀膜厚度，升高转速r会增加溅射率s，从而增加镀膜厚度；实现行进方向膜厚均匀性的精细调节。

技术领域

本发明属于镀膜技术领域，特别涉及一种连续均匀镀膜的调节方法。

背景技术

传统Batch真空镀膜机，基片脱气约30分钟之后才开始镀膜。待镀基片从大气环境进入真空环境的连续镀膜机，之后在很短的时间(一般为2-5分钟)内就开始镀膜，基片表面的杂质气体难以完全清除。杂质气体会影响靶的溅射率，造成基板行进方向上镀制的膜层厚度不均匀，溅射率越大，膜层厚度越厚。

如图3所示，现有解决方案为：

第一种方案，在进口区CM1、CM2、CM3腔室对镀膜框架(即图3中的英文字母KJ)上的基片进行加热。其缺点是：部分基片不耐温，方法有局限性。其中CM表示腔室，CM后面的数字表示腔室的编号；KJ表示镀膜框架，KJ后面的数字表示镀膜框架的编号，镀膜框架由CM1进入，并向CM5一侧移动。

第二种方案，CM2腔室增加Polycold冷阱，捕捉杂质气体。缺点是：Polycold价格高，且镀膜框架在CM2腔室停留时间短，脱气效果不好。一套Polycold需要50万元人民币。

第三种方案，进口区增加离子处理系统，如霍尔离子源、考夫曼离子源、射频离子源、线性离子源等等。缺点是：价格非常贵，一套线性离子源需要40万元人民币。

发明内容

鉴于背景技术所存在的技术问题，本发明所提供的连续均匀镀膜的调节方法，控制成本很低，能实现行进方向膜厚均匀性的精细调节。

为了解决上述技术问题，本发明采取了如下技术方案来实现：

1、通过光度计、椭偏仪或台阶仪测试当前玻璃上各位置的膜层厚度，进而掌握膜厚变化规律；

2、在旋转阴极的A管与CM3腔室边缘处，加装光电感应器；光电感应器与控制器电连接，控制器与旋转阴极电连接；

3、当镀膜框架KJ1到达光电感应器的位置时，计时器计时“0”秒，根据掌握的膜厚变化规律，降低或升高A管的转速r；降低转速r会降低溅射率s，从而降低镀膜厚度，升高转速r会增加溅射率s，从而增加镀膜厚度；

4、镀膜框架KJ1继续行驶T₁秒后，恢复A管至正常转速r；再经过T₂秒后，计时器计时恢复至“0”秒状态；

5、当镀膜框架KJ2到达光电感应器的位置时，根据镀膜框架KJ2行进方向膜厚变化规律，降低或升高A管的转速r；

6、镀膜框架KJ2继续行驶T₁秒后，恢复A管至正常转速r；再经过T₂秒后，计时器计时恢复至“0”秒状态；

7、重复步骤5和步骤6，依次完成镀膜框架KJ3至镀膜框架KJN的镀膜。

优选的方案中，所述的T₁为每个镀膜框架KJ镀膜周期时间长，比如15秒。。

优选的方案中，所述的T₂为镀膜框架KJN与下一个镀膜框架KJN+1间隔镀膜时间长，比如4秒。