[发明专利]一种负性光刻胶显影液在审
| 申请号： | 201910780345.6 | 申请日： | 2019-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN110647018A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 梁小朝;连杰;姚浩川;黄德新 | 申请（专利权）人： | 合肥中聚合臣电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 231600 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 非离子型表面活性剂 表面活性剂 显影液 有机碱 蓖麻油聚氧乙烯醚 金属离子杂质 晶体管 过滤 离子型表面活性剂 烷基酚聚氧乙烯醚 四甲基氢氧化铵 四乙基氢氧化铵 负性光刻胶 原料重量比 混合处理 密集线路 四甲基铵 微米级别 对基板 配料釜 碳酸 基板 与非 去除 送入 保证 | ||
1.一种负性光刻胶显影液，其特征在于,由有机碱、表面活性剂和水各原料比例混合而成，所述各原料重量比为：有机碱5～20％，表面活性剂1～15％，余量的水。
2.如权利要求1所述的一种负性光刻胶显影液，其特征在于，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四甲基铵碳酸(氢)盐中的任意一种或几种。
3.如权利要求2所述的一种负性光刻胶显影液，其特征在于，所述表面活性剂为非离子型表面活性剂，非离子型表面活性剂选用烷基酚聚氧乙烯醚。
4.如权利要求1～3任一所述的一种负性光刻胶显影液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1：将表面活性剂和有机碱分别加入配料釜中，进行搅拌，搅拌时长30～45min；
步骤2：将水匀速加入到步骤混合溶液中，并持续进行搅拌；
步骤3：搅拌完成后使用过滤器进行过滤，即得显影液。
5.如权利要求4所述的一种负性光刻胶显影液的制备方法，其特征在于，所述过滤器过滤孔径为0.02～0.1μm。
6.如权利要求5所述的一种负性光刻胶显影液的制备方法，其特征在于，所述过滤器过滤孔径为0.04μm。
7.如权利要求3所述的一种负性光刻胶显影液，其特征在于，所述非离子型表面活性剂经过蓖麻油聚氧乙烯醚混合处理。
8.如权利要求7所述的一种负性光刻胶显影液，其特征在于，所述非离子型表面活性剂与蓖麻油聚氧乙烯醚混合处理方法，包括如下步骤：取非离子型表面活性剂重量3倍的蓖麻油聚氧乙烯醚，与非离子型表面活性剂一同送入配料釜中，进行搅拌；
搅拌过程中间断加入适量水，保持混合液稀释；
静置3～4H后，滤出非离子型表面活性剂，并使用0.1％的双氧水处理；
然后加热非离子型表面活性剂去除双氧水即可。
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