[发明专利]一种精密线路COF基板金凸块的制造方法在审

专利信息
申请号: 201910784098.7 申请日: 2019-08-23
公开(公告)号: CN110517965A 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 戚爱康;孟庆园;计晓东;孙彬;沈洪;李晓华 申请(专利权)人: 江苏上达电子有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 32220 徐州市三联专利事务所 代理人: 张帅<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 221000 江苏省徐州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 凸块 蚀刻 光刻胶工序 突起部 镍膜 显影 光刻胶图案 无电解电镀 电镀处理 高度偏差 绝缘基板 生产效率 曝光 传统的 电镀金 光刻胶 胶工序 金凸块 电镀 保留 次光 干膜 镍金 精密 开口 图案 覆盖 制造
【权利要求书】:

1.一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于,包括:

第一次光刻胶工序,在绝缘基板(1)的铜箔(11)上涂光刻胶(21),利用菲林底片对涂布了光刻胶(21)的绝缘基板(1)进行曝光,显影将需要的光刻胶图案(22)保留;

第一蚀刻工序,用保留的光刻胶图案(22)做为抗蚀层,对绝缘基板(1)进行湿法全蚀刻,得到凸块本体部(31),用去膜溶剂去除去凸块本体部(31)上的光刻胶图案(22),得到完全裸漏的凸块本体部(31);

第二光刻胶工序,在第一蚀刻工序后得到的凸块本体部(31)的绝缘基板(1)上,压一层干膜Ⅰ(23),利用菲林底片对涂布了干膜Ⅰ(23)后的绝缘基板(1)进行曝光,显影将所需的干膜图案Ⅰ(24)保留;

第二蚀刻工序,用保留下来的干膜图案Ⅰ(24)做为抗蚀层,对绝缘基板(1)进行湿法半蚀刻,得到凸块突起部(32),接着用去膜溶剂去除干膜图案Ⅰ(24)得到完全裸漏的凸块本体部(31)和凸块突起部(32);

第三光刻胶工序,在第二蚀刻工序后得到的凸块本体部(31)的绝缘基板(1)上,压一层干膜Ⅱ(25),利用菲林底片对涂布干膜Ⅱ(25)的绝缘基板(1)进行曝光,显影,露出开口(41)同时将需要的干膜图案Ⅱ(26)保留;

电镀工序,通过将干膜图案Ⅱ(26)用作掩模进行无电解电镀镍金,将凸块突起部(32)的表面用镍膜(42)覆盖,在镍膜(42)的表面电镀金,接着用去膜溶剂去除去干膜图案Ⅱ(26),得到完全裸漏的凸块(3)。

2.根据权利要求1所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的绝缘基板(1)由具有电绝缘性的绝缘基材(10)和铜箔(11)构成,绝缘基板(1)采用单面敷铜或双面敷铜。

3.根据权利要求2所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的铜箔(11)厚度为8um-16um,绝缘基材(10)为聚酰亚胺,厚度为 12.5-125um 的柔性绝缘基材。

4.根据权利要求1所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的第一次光刻胶工序中,光刻胶(21)使用正性或负性的任意一种,涂布前对绝缘基板(1)的铜箔(11)进行微蚀刻。

5.根据权利要求1所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的第二光刻胶工序中,通过真空压模机进行压膜。

6.根据权利要求1所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的第二蚀刻工序中,对绝缘基板(1)进行湿法半蚀刻时,使用添加蚀刻抑制剂的蚀刻液,采用喷淋方式对绝缘基板(1)上的凸块本体部(32)垂直喷射。

7.根据权利要求6所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的蚀刻液使用氯化亚铁溶液或氯化铜溶液。

8.根据权利要求6所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的蚀刻抑制剂采用胺类、醚类、乙醇类和asol 类化合物。

9.根据权利要求1所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的电镀工序中,镍膜 (42)的厚度尺寸为 2-10um。

10.根据权利要求1所述的一种精密线路COF基板金凸块的制造方法,其特征在于:所述的电镀工序中,镍膜(42)的成分主要是镍,并含有磷,电镀金层小于0.3um。

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