[发明专利]防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法

说明书

本发明公开了一种防止污渍的光刻胶剥离剂组合物以及一种制造平板显示器基板的方法，所述光刻胶剥离剂组合物包含：(a)由下面的化学式1所表示的二醇醚；(b)碱性化合物；(c)非质子性极性溶剂；以及(d)抗腐蚀剂：R‑(OCH₂CH₂)n‑OH(1)其中，R是甲基或乙基，且n是2或3的整数，其中，所述二醇醚具有由下面的等式1计算出的负值的辛醇/水分配系数(LogP)：Kow＝Co/CwCo：溶质在辛醇中的浓度Cw：溶质在水中的浓度LogP(分配系数)＝Log(Kow)。

本申请是申请日为2013年10月31日，申请号为201310530582.X，发明名称为“防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物，该光刻胶剥离剂组合物在制造平板显示器基板的过程中具有优异的清洁能力而且具有防止剥离过程中形成的污渍的优异能力。

背景技术

随着对高分辨率平板显示器需求的增加，已经做出了努力来增加每单位面积的像素数目。根据这种趋势，需要减小布线的宽度，因此引入干蚀刻工艺，从而使得工艺条件更加严格。而且，根据平板显示器的尺寸增加，布线的信号速度也需要增加，因此电阻系数比铝低的铜实际上用作布线的原材料。因此，在剥离过程中，即在除去光刻胶的过程中，必须使用高性能的剥离剂。具体地，需要的是除去在干蚀刻之后所形成的残渣并防止金属布线的腐蚀的高水平剥离性能。尤其，需要剥离剂具有除去干蚀刻后所形成的残渣的能力以及针对铜和铝的防锈性能。此外，剥离剂应是经济上有益的，使得它能够处理许多片基板。已有公开的新技术来满足上述要求。

例如，韩国专利申请2006-0028523公开了不引起金属布线腐蚀的光刻胶剥离剂。然而，这种光刻胶剥离剂是有问题的，因为它包括引起严重污渍的特定二醇醚，所以在剥离过程后它引起形成在基板上的污渍。

发明内容

因此，作出本发明以解决上述问题，本发明的目的是提供一种光刻胶剥离剂组合物，该光刻胶剥离剂组合物具有在制造平板显示器基板的过程中除去由干式蚀刻/湿式蚀刻所形成的光刻胶残渣的优异能力并能够在剥离过程中防止污渍形成在基板上。

为了实现上述目的，本发明的一个方面提供防止污渍的光刻胶剥离剂组合物，包含：(a)由下面的化学式1所表示的二醇醚；(b)碱性化合物；(c)非质子性极性溶剂；以及(d)抗腐蚀剂：

R-(OCH₂CH₂)n-OH (1)

其中，R是甲基或乙基，且n是2或3的整数，其中，所述二醇醚具有由下面的等式1计算出的负值的辛醇/水分配系数(LogP)：

Kow＝Co/Cw

Co：溶质在辛醇中的浓度

Cw：溶质在水中的浓度

LogP(分配系数)＝Log(Kow)。

本发明的另一个方面提供制造平板显示器基板的方法，包括使用上述光刻胶剥离剂组合物来清洁平板显示器基板的步骤。

附图说明

从下面结合附图的详细描述中，本发明上述及其它的目的、特征和优势将被更清楚地理解，其中：

图1示出根据测试例1使用卤素灯来观察铜(Cu)基板的结果的照片，其中，(a)示出使用实施例3的光刻胶剥离剂组合物(光刻胶的含量：0.5％)来处理铜基板的结果；和(b)示出使用比较例2的光刻胶剥离剂组合物(光刻胶的含量：0.3％)来处理铜基板的结果；以及