[发明专利]一种化工罐在位清洗系统及其清洗方法

权利要求书

1.一种化工罐在位清洗系统，其特征在于，包括：

安装在化工罐内并对其内部进行清洗的清洗机构(1)、通过排水管(11)与所述化工罐连接的循环过滤机构(2)以及一控制子系统；

所述控制子系统包括：

若干组设置于所述化工罐内的数字化传感器(31)；

设置于所述排水管(11)上、控制所述排水管(11)连通状态的输出阀(32)；

与所述数字化传感器(31)通信连接，将所述数字化传感器(31)检测所得指标实时数据与对应的指标目标数据相比对，并控制所述清洗机构(1)、所述输出阀(32)动作的控制端(33)；

其中，所述指标实时数据包括碎屑检测数据、油污检测数据以及环境参数数据，所述指标目标数据包括对应于各指标实时数据的目标参数数据；

所述清洗机构(1)包括若干设置于所述化工罐侧壁的高压喷头(12)，所述高压喷头(12)通过流通管路(13)连接有储液箱(14)，所述储液箱(14)通过调节阀(41)连接有补液槽(4)；

所述储液箱(14)包括封闭的外筒体(141)，所述外筒体(141)内设有内筒体(142)，所述外筒体(141)内壁与内筒体(142)外壁之间设有导热层(143)，所述导热层(143)底部设有加热器(144)；

所述储液箱(14)内设有深插箱底的搅拌轴(145)，所述搅拌轴(145)上设有至少三层桨叶(146)，所述桨叶(146)通过轴套(147)依次交错安装在搅拌轴(145)上；

所述循环过滤机构(2)与所述化工罐连接的中间罐(21)，所述中间罐(21)另一侧通过循环管路(22)与储液箱(14)相连，并且所述中间罐(21)内设有过滤篮(23)；

所述流通管路(13)和循环管路(22)上均设有与控制端(33)通信连接的泵体(15)和输入阀(16)；

还包括方法：

S1、所述数字化传感器(31)对所述指标实时数据进行检测，并反馈至所述控制端(33)，确定待清洗的化工罐的待清洗部位；

S2、所述控制端(33)将所述指标实时数据与其存储的对应指标目标数据相比对，判断所述待清洗部位的脏污程度以及污垢成分；

S3、所述控制端(33)控制所述清洗机构(1)清洗化工罐并关闭输出阀(32)，实现自动化在位清洗工作，并且根据控制端(33)的判断结果控制所述调节阀(41)、加热器(144)、搅拌轴(145)动作；

S4、打开所述输出阀(32)将污水输出至所述循环过滤机构(2)中过滤净化以重复使用。

2.根据权利要求1所述的一种化工罐在位清洗系统，其特征在于，所述控制端(33)包括至少一台个人计算机(331)及至少一台采用堆栈算法进行数据存储的可编程逻辑控制器(332)，所述个人计算机(331)与所述可编程逻辑控制器(332)之间进行数据同步。

3.根据权利要求2所述的一种化工罐在位清洗系统，其特征在于，所述控制端(33)与所述数字化传感器(31)通过握手信号的交互进行工作状态的相互检查。

4.根据权利要求3所述的一种化工罐在位清洗系统，其特征在于，所述个人计算机(331)与所述可编程逻辑控制器(332)通过心跳信号的交互进行工作状态的相互检查。