[发明专利]一种化工罐在位清洗系统及其清洗方法

说明书

本发明涉及化工设备技术领域，具体涉及一种化工罐在位清洗系统及其清洗方法，旨在解决通过工程手段实现化工罐的清洗，存在目标物清洁程度判断不准，重现性差，人为干扰因素大，没有相对固定标准的问题，其技术要点在于包括安装在化工罐内的清洗机构、通过排水管与化工罐连接以回收清洗后污水的循环机构以及一控制子系统，该控制子系统包括若干组数字化传感器、设置于所述排水管上的输出阀，以及与数字化传感器通信连接，将所述数字化传感器检测所得的指标实时数据与对应的指标目标数据比对，并控制清洗机构和输出阀动作的控制端。本发明可对化工罐中残留的油污实现自动化在位清洗工作，而且清洗后的水能循环再次使用，符合绿色节能的环保理念。

技术领域

本发明涉及化工设备技术领域，具体涉及一种化工罐在位清洗系统及其清洗方法。

背景技术

化工罐是为了将原料加工成一定规格的成品，需要经过原料预处理、化学反应以及反应产物的分离和精制等一系列化工过程，实现这些过程所用的设备，因此在化工成品生产过程中尤其依赖于化工罐的处理。而化工罐在化工生产过程中不可避免的会接触到许多油污或化学腐蚀产品，这些油污杂质长期不清理干净，会严重影响设备的正常运行，造成重要的经济损失，所以我们需要对这些化工罐进行清洁处理。目前，常用的清洗方式为强酸浸泡或在位清洗的方式，不过采用强酸浸泡清洗，虽然可以将化工罐清洗干净，但是在清洗过程中不可避免地会对化工罐造成腐蚀，降低其使用寿命，而且在使用过程中，酸雾会对人体产生较大的危害，并对环境造成污染。

另外，在位清洗(CIP)是指不拆卸设备或元件，在密闭的条件下，用一定温度和浓度的清洗液对清洗装置加以强力作用，使化工罐的表面洗净和杀菌的方法；现有的较多为定向设计的，通过工程手段实现目标物的清洗的系统，其在制药，食品，日化等领域新建生产线时，通过工程手段实现，存在目标物清洁程度判断不准，重现性差，人为干扰因素大，没有相对固定的标准等缺点；而我们通过设备化的手段，设计制造全自动的在位清洗系统，能自动清洗特定的目标物，把本来需要工程领域实现的某项功能通过相关的专用设备实现。

发明内容

因此，本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中通过工程手段实现化工罐的清洗，存在目标物清洁程度判断不准，重现性差，人为干扰因素大，没有相对固定的标准的缺陷，从而提供一种化工罐在位清洗系统及其清洗方法。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种化工罐在位清洗系统，包括：

安装在化工罐内并对其内部进行清洗的清洗机构、通过排水管与所述化工罐连接的循环过滤机构以及一控制子系统；

所述控制子系统包括：

若干组设置于所述化工罐内的数字化传感器；

设置于所述排水管上、控制所述排水管连通状态的输出阀；

与所述数字化传感器通信连接，将所述数字化传感器检测所得指标实时数据与对应的指标目标数据相比对，并控制所述清洗机构、所述输出阀动作的控制端；

其中，所述指标实时数据包括碎屑检测数据、油污检测数据以及环境参数数据，所述指标目标数据包括对应于各指标实时数据的目标参数数据。

可选地，所述清洗机构包括若干设置于所述化工罐侧壁的高压喷头，所述高压喷头通过流通管路连接有储液箱，所述储液箱通过调节阀连接有补液槽。

可选地，所述储液箱包括封闭的外筒体，所述外筒体内设有内筒体，所述外筒体内壁与内筒体外壁之间设有导热层，所述导热层底部设有加热器。

可选地，所述储液箱内设有深插箱底的搅拌轴，所述搅拌轴上设有至少三层桨叶，所述桨叶通过轴套依次交错安装在搅拌轴上。

可选地，所述循环过滤机构与所述化工罐连接的中间罐，所述中间罐另一侧通过循环管路与储液箱相连，并且所述中间罐内设有过滤篮。