[发明专利]一种还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法

权利要求书

1.一种还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)配制氧化石墨烯基混合液a，混合液a除包含氧化石墨烯外，同时也包含聚合物、有机纳米材料、无机纳米材料、金属纳米材料以及用于制备无机或金属纳米材料的前驱物中的一种或多种；

(2)将步骤(1)中得到的氧化石墨烯基混合液a通过一定方式如真空抽滤、旋涂、滴涂、刮涂、涂布、电纺等制备成氧化石墨烯基复合膜；

(3)再配制另外一种溶液或混合液b，通过一定方式如真空抽滤、旋涂、滴涂、刮涂、涂布、电纺等方式在步骤(2)中制备的氧化石墨烯基复合膜表面上制备另外一种含有不同材料成分膜，从而制备出氧化石墨烯基不对称复合膜；

(4)在反应容器中加入一定量液体，再放入步骤(3)中得到的氧化石墨烯基不对称复合膜，然后将反应容器密封，在一定温度下进行水热或者溶剂热反应一段时间，制得还原氧化石墨烯基不对称复合膜。

2.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述氧化石墨烯基混合液a可以直接配制而成，也可以分多个步骤分别配制含有不同物质的溶液或分散液后，再混合而成，其中使用的溶剂是水和极性有机溶剂中的一种或多种，根据需要也可加入一定量的酸性或碱性物质。

3.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述氧化石墨烯基混合液a可加入还原剂，还原剂为水合肼、硼氢化钠、葡萄糖、抗坏血酸、抗坏血酸钠、乙二醇、二乙二醇、对苯二酚、氢溴酸、氢碘酸和醋酸中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述氧化石墨烯混合液a可加入交联剂，交联剂包括二胺类物质、含有氨基和巯基物质、1，4-丁二醇二缩水甘油醚、乙二醛、甲醛、乙醛酸、柠檬酸、富马酸中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述聚合物为水溶性聚合物和其它极性溶剂溶解性聚合物。

6.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述有机纳米材料主要包括二维高分子。

7.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述无机纳米材料包括硅、富勒烯、活性炭、石墨烯、碳纳米管、炭黑、黑鳞、石墨炔、Mxene、二氧化钛、氮化硅，氮化硼、二硫化钼、四氧化三铁、二氧化锡、二氧化钛、四氧化三钴、氢氧化镍、四氧化三锰、硫化镉、氧化锌、二氧化铷、碲化镉、硫化锌等纳米材料。

8.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述金属纳米材料包括金、银、箔、铅、镍、铜、锗等。

9.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述溶液或混合液b除溶剂外可为单一成分或多种成分，溶液或混合液b为多种成分时，成分必须与步骤(1)中所述氧化石墨烯基混合液a成分不同。

10.根据权利要求1所述的还原氧化石墨烯基不对称复合膜的通用制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中，所述液体为水、极性有机溶剂、液体还原剂、液体交联剂中的一种或多种混合体，液体根据需要也可加入酸性或碱性物质。