[发明专利]一种光学邻近效应修正方法

说明书

本发明提供了一种光学邻近效应修正方法，包括：筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，第一类型边缘线包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，所述第二片段的两端点的拐角类型同为平角；量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算第一类型边缘线的所述三个片段的边缘放置误差；修正步骤，根据计算步骤中确定的边缘放置误差，对第一类型边缘线进行修正；其中，第二片段的边缘放置误差的取值方式与第一片段、第三片段保持相同，由此减少了光学邻近效应修正的时间。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，更详细地说，本发明涉及一种光学邻近效应修正方法。

背景技术

在半导体制造过程中，随着光刻尺寸越来越小，分辨率增强技术被普遍采用，其中，在180nm技术节点以下，分辨率增强技术中的光学邻近效应修正方法(OPC,opticalproximity correction)作为一种常规的技术手段被采用，其基本原理是通过建立基于特定光刻条件的曝光模型，对原始版图或目标版图进行模拟以得到模拟误差，然后将原始版图按一定的规则进行分段切割，根据模拟误差对片断进行偏移补偿并重新模拟，经过数个回合的模拟和修正和得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图，基于模型OPC方法在修正过程中一般要经历多次修正(每一次修正称为一个迭代)，直到修正后的模拟结果符合目标图像，或者修正后的模拟值与目标值的误差在允许范围内。

现有技术中，OPC修正迭代的次数较多，OPC修正时间较长，因此，有必要对现有的光学邻近效应修正方法加以改进。

发明内容

为了解决现有技术中的上述问题，即提供一种具有能够减少光学邻近效应修正迭代次数的光学邻近效应修正方法。

本发明所提供的光学邻近效应修正方法，包括：

筛选步骤，筛选出第一类型边缘线，其中，第一类型边缘线为具有三个片段的边缘线，三个片段包括依次连接的第一片段、第二片段和第三片段，第一片段和第三片段的两端点的拐角类型均同为外角和平角的组合或者同为内角和平角的组合，第二片段的两端点的拐角类型同为平角；

量测步骤，获得每个片段上若干参考位置点的边缘放置误差样本值；

计算步骤，以预先设定的边缘放置误差的取值方式，计算第一类型边缘线的三个片段的边缘放置误差，其中，取值方式是指，根据片段端点的拐角类型，从多个边缘放置误差样本值中选取作为边缘放置误差的统计值的选取方式；

修正步骤，根据计算步骤中确定的边缘放置误差，对第一类型边缘线进行修正；

其中，第一片段和第三片段的边缘放置误差的取值方式根据该片段的两端点的拐角类型确定，第二片段的边缘放置误差的取值方式与第一片段、第三片段保持相同。

在该技术方案中，通过对特殊图像也即第一类型边缘线的筛选，实现了对第二片段的优化修正，由此减少了修正迭代次数，减少了修正时间，提高了修正效率。

在本发明的较优技术方案中，在修正步骤之后还包括：

检测步骤，检测当前经修正的图像与目标图像的更新的边缘放置误差。

在本发明的较优技术方案中，在检测步骤之后，还包括：

将更新的边缘放置误差与预设范围进行比较，若更新的边缘放置误差的绝对值小于预设的阈值，则结束修正过程；若更新的边缘放置误差的绝对值超过阈值，则转至修正步骤。

在该技术方案中，实现了对待修正图像的循环修正，通过对边缘放置误差的绝对值和预设的阈值的比较，实现了对经修正的图像是否需要再次修正的判定。

在本发明的较优技术方案中，计算步骤中，预先设定的边缘放置误差的取值方式包括：