[发明专利]一种微偏振片模板制作方法

说明书

本发明公开了一种微偏振片模板的制作方法，包括：S1：在基底一侧的表面设置第一光刻胶层；S2：制作掩膜版；S3：利用所述掩膜版对所述第一光刻胶层进行接触曝光；S4：在所述第一光刻胶层远离所述基底的一侧的表面涂覆第二光刻胶层；S5：利用全息光刻对所述第二光刻胶层进行曝光并显影；S6：在所述第二光刻胶层远离所述底板一侧表面上沉积金属层；S7：将所述第一光刻胶层、所述第二光刻胶层剥离，得到所述微偏振片模板。本发明公开的微偏振片模板的制作方法避免了电子束直写曝光制作周期长且设备使用费昂贵问题。

技术领域

本发明涉及偏振领域，尤其是一种微偏振片模板制作方法。

背景技术

偏振作为光波的四大基础特性之一，可以获取目标的表面特征、形状、阴影和粗糙度等信息。偏振成像在机器视觉、生物医疗以及军事武器装备上都有广泛应用。偏振成像包括物质偏振特性、偏振传输特性、偏振探测技术和偏振信息处理四大部分，而偏振片则是偏振成像中基础核心的光学元件。微偏振片作为一种新型的偏振成像元件，由于其体积小且可以直接获取全偏振信息的优势而备受关注。

微偏振片又名微偏振器阵列，一般包含四种不同方向的偏振线栅来同时获取不同方向的偏振信息。目前较为普遍的微偏振片制作方法为通过电子束直写曝光制作掩膜，再利用刻蚀工艺将图形转移至金属上。而电子束直写曝光的缺点也显而易见，即制作周期长且设备使用费昂贵，因此需提出一种微偏振器模板的制作方法，以制作出价格低廉、可重复利用的微偏振器模板。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的是提供一种微偏振片模板的制作方法。

本发明所采用的技术方案是：

第一方面，本发明提供一种微偏振片模板的制作方法，包括：

S1：在基底的一侧表面设置第一光刻胶层；

S2：制作掩膜版；

S3：利用所述掩膜版对所述第一光刻胶层进行接触曝光；

S4：在所述第一光刻胶层远离所述基底的一侧的表面涂覆第二光刻胶层；

S5：利用全息光刻对所述第二光刻胶层进行曝光并显影；

S6：在所述第二光刻胶层远离所述底板一侧表面上沉积金属层；

S7：将所述第一光刻胶层、所述第二光刻胶层剥离，得到所述微偏振片模板。

进一步地，步骤S1中所述第一光刻胶层为曝光波长为365nm的正性光刻胶。

进一步地，步骤S2中所述掩膜版的中心具有一透光矩形区域，其边长为a。

进一步地，步骤S3中所述曝光为利用紫外光刻机将掩膜版图形转移至第一光刻胶层上，且曝光后不显影。

进一步地，步骤S4中所述第二光刻胶层为曝光波长为436nm的正性光刻胶。

进一步地，步骤S5中所述全息光刻为采用蓝光激光光束干涉曝光，在所述曝光后需显影，且将所述第一和第二光刻胶层的曝光区域显影至无。

进一步地，若步骤S1和步骤S4中所述第一光刻胶层及所述第二光刻胶层采用相同类型显影液，则在步骤S5中全息光刻时应适当减小曝光量并增加显影时间；若步骤S1和步骤S4中所述第一光刻胶层及所述第二光刻胶层采用不同类型显影液，则在所述第二光刻胶层显影后更换显影液，以溶解所述第一光刻胶层的曝光区域。

进一步地，步骤S6所述沉积金属层为采用真空热蒸镀方法，且蒸镀厚度不超过所述第一光刻胶层的厚度。

进一步地，步骤S7中将所述第一光刻胶层、所述第二光刻胶层剥离为将蒸镀后的样品放入丙酮中浸泡并在超声机中进行超声处理。