[发明专利]一种半导体芯片制造用蚀刻装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201910799299.4 申请日: 2019-08-28
公开(公告)号: CN110416133A 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 李建林;张永;武文扬 申请(专利权)人: 南京信息职业技术学院
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 俞翠华
地址: 210023 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 反应机构 电路板 供气机构 运输机构 高压气体 印刷机构 半导体芯片制造 轨迹运动 蚀刻装置 支撑机构 预设 蚀刻 刻蚀电路板 良品率 输出端 输入端 吹气 清洁 驱动 印刷
【说明书】:

发明公开了一种半导体芯片制造用蚀刻装置及其使用方法,包括支撑机构、运输机构、印刷机构、供气机构和反应机构;运输机构与所述支撑机构相连,用于驱动待刻蚀电路板沿着预设的轨迹运动;所述印刷机构、供气机构和反应机构顺次设置,三者均设于所述运输机构的上方,所述供气机构的输出端与所述反应机构的输入端相连,当电路板运动至反应机构下方时,供气机构向反应机构提供高压气体,所述反应机构向电路板吹气。本发明利用运输机构带动电路板沿着预设轨迹运动,首先利用印刷机构对电路板进行印刷,然后利用供气机构为反应机构提供高压气体,当电路板运动至反应机构处时,利用高压气体对电路板进行清洁,避免了反应液的过渡蚀刻,大大提高了良品率。

技术领域

本发明属于半导体芯片制造领域,具体涉及一种半导体芯片制造用蚀刻装置及其使用方法。

背景技术

蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。

但是一般在进行蚀刻加工时,半导体板在反应液中反应后,如果不及时清理反应液,会发生过渡蚀刻的现象,严重的会提高次品率,并且在清洗后还需要将清洗也清理,如果采用普通风干,工作效率会变低。

发明内容

针对上述问题,本发明提出一种半导体芯片制造用蚀刻装置及其使用方法,采用高压气体对半导体电路板进行清洁,避免了反应液的过渡蚀刻,提高良品率,并且在清洗后能够快速烘干和降温,提高加工效率。

为了实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:

第一方面,本发明提供了一种半导体芯片制造用蚀刻装置,包括支撑机构、运输机构、印刷机构、供气机构和反应机构;

所述运输机构与所述支撑机构相连,用于驱动待刻蚀电路板沿着预设的轨迹运动;

所述印刷机构、供气机构和反应机构顺次设置,三者均设于所述运输机构的上方,所述供气机构的输出端与所述反应机构的输入端相连,当电路板运动至反应机构下方时,所述供气机构向反应机构提供高压气体,所述反应机构向电路板吹气。

作为本发明的进一步改进,所述支撑机构包括底座、第一支撑座、第二支撑座、第三支撑座,所述第一支撑座、第二支撑座、第三支撑座顺次设于所述底座上。

作为本发明的进一步改进,所述印刷机构包括升降气缸、升降座、印刷模板、电动滑块、磨合和滚刷;

所述升降气缸与所述支撑机构相连;所述升降座与所述升降气缸相连,其内侧设有滑轨;所述印刷模板设于所述升降座上;所述电动滑块设于所述滑轨内,且与所述墨盒相连,所述滚刷与所述墨盒下端相连,且与所述印刷模板接触。

作为本发明的进一步改进,所述运输机构包括轨道、移动座、固定架、电机、滚轮和支撑轮;所述轨道设于所述支撑机构上;所述移动座与所述轨道滑动相连;所述固定架设于所述移动座上;所述电机与所述固定架相连;所述滚轮套设于所述电机的外侧,由所述电机驱动;所述支撑轮与所述滚轮相对设置,且与所述移动座相连。

作为本发明的进一步改进,所述半导体芯片制造用蚀刻装置还包括固定机构,所述固定机构包括用于放置电路板的运输板和固定夹,所述运输板与所述移动座相连,所述固定夹设于所述运输板上。

作为本发明的进一步改进,所述供气机构包括气管、传输管和气泵;所述气管一端连接所述反应机构,另一端通过所述传输管与所述气泵连接。

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