[发明专利]掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法在审
申请号: | 201910801463.0 | 申请日: | 2019-08-28 |
公开(公告)号: | CN112501558A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 牛彤;嵇凤丽;吴建鹏;杜森 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/04;G06F30/20;G06F30/392 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 颜镝;王莉莉 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 装置 设计 优化 方法 | ||
1.一种掩膜版,包括:
图案区域,包括:
多个开口,相邻的开口通过第一肋隔开;和
第二肋,位于所述图案区域的边缘;
其中,所述多个开口中的至少一个开口具有非平直的侧边、与所述非平直的侧边相交的两个第一平直侧边和位于所述非平直的侧边的对侧、且与所述第一平直侧边相交的第二平直侧边,在所述第二肋上设有用于对所述非平直的侧边进行拉伸变形补偿的开孔,所述两个第一平直侧边沿第一方向向所述第二肋延伸的延伸线与所述第二肋相交得到第一区域,所述开孔至少位于所述第一区域内,所述第一方向与所述第一平直侧边平行,与所述第一方向垂直的第二方向与所述第二平直侧边平行。
2.根据权利要求1所述的掩膜版,其中,所述多个开口按照阵列分布,每列开口中的部分或全部开口具有大致沿第二方向延伸的所述非平直的侧边,所述第二方向与所述阵列的行方向平行,所述第二肋上对应于每列开口的第一区域内均设有所述开孔。
3.根据权利要求2所述的掩膜版,其中,所述多个开口的形状和尺寸均相同,且所述多个开口中的所述第一平直侧边均与所述第一方向平行,所述第一方向与所述阵列的列方向平行,所述第二肋上对应于每列开口的第一区域设置的所述开孔的数量、形状和尺寸均相同。
4.根据权利要求2所述的掩膜版,其中,所述非平直的侧边在所述第二方向上的长度小于每个所述第一平直侧边的长度,并与所述第二平直侧边的长度相等。
5.根据权利要求1所述的掩膜版,其中,所述非平直的侧边包括:两个平直段和相对于所述平直段向所述开口的内侧凹入的凹陷段,所述凹陷段的两端分别与所述两个平直段连接,所述开孔相对于所述凹陷段的中心线对称,所述凹陷段的中心线与所述第一方向平行。
6.根据权利要求5所述的掩膜版,其中,所述凹陷段位于所述非平直的侧边的中间位置。
7.根据权利要求5所述的掩膜版,其中,所述凹陷段呈折线形或圆弧形。
8.根据权利要求5所述的掩膜版,其中,位于所述第二肋的开孔在所述第二方向上的长度小于所述非平直的侧边在所述第二方向上的长度,且大于所述凹陷段在所述第二方向上的长度。
9.根据权利要求8所述的掩膜版,其中,位于所述第二肋的开孔在所述第二方向上的长度为40~60mm,所述凹陷段在所述第二方向的长度为3~35mm。
10.根据权利要求2所述的掩膜版,其中,所述第二肋上对应于每列开口的开孔在所述第一方向间隔排列至少两个。
11.根据权利要求10所述的掩膜版,其中,所述第二肋在所述第一方向的宽度为20~70mm,每个开孔在所述第一方向的宽度为0.6~1mm,所述第一肋在所述第一方向的宽度为10~15mm。
12.根据权利要求11所述的掩膜版,其中,所述非平直侧边包括:两个平直段和相对于所述平直段向所述开口的内侧凹入的凹陷段,所述凹陷段的两端分别与所述两个平直段连接,所述凹陷段在所述第一方向的宽度为0.5~8mm。
13.根据权利要求10所述的掩膜版,其中,在所述第一方向相邻的开孔的中心间距为4~8mm。
14.根据权利要求5所述的掩膜版,其中,所述开孔的形状为矩形或月牙形,所述月牙形的两条圆弧边的凸起方向与所述凹陷段的凹入方向相反。
15.根据权利要求1所述的掩膜版,其中,所述开孔为通孔。
16.根据权利要求2所述的掩膜版,其中,所述开孔的延伸方向与所述第二方向大致平行。
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