[发明专利]一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法有效
申请号: | 201910804377.5 | 申请日: | 2019-08-28 |
公开(公告)号: | CN112444200B | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 徐亚磊;张建新 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工作台 设备 清零 误差 测量方法 | ||
本发明公开了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法,工作台设备包括:投影物镜、主基板、工作台、控制器和至少两个垂向测量器;每个垂向测量器包括对应设置的光线发射器和光线接收器,设置于主基板靠近工作台的一侧;在垂直于主基板的平面内,对应设置的光线发射器和光线接收器均设置于投影物镜的浸没头的同一侧;光线接收器接收对应光线发射器发射的,并经工作台上第一测量点或第二测量点反射的测量光线;控制器根据第一测量点和第二测量点的垂向高度获取工作台的垂向清零误差。本发明提供了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法,以解决进行垂向清零误差的测量时,一套干涉仪系统无法覆盖工作台的全行程的问题。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法。
背景技术
在半导体设备运行过程中,往往需要通过若干个传感器的执行器在线测量和校准设备自身的随机误差,以提高半导体设备的工作定位精度。
例如,对于工作台设备,工作台携带硅片或玻璃基板在水平方向或竖直方向进行移动,从而实现对工作台上的硅片或玻璃基板进行处理或运送,干涉仪系统能够对工作台的位置进行测量。干涉仪系统中的垂向干涉仪用于确定工作台的垂向零位,从而将工作台移动至垂向零位,但是垂向干涉仪将工作台进行位置归零的过程中,存在清零误差,即工作台每次反射垂向零位的实际位置略有不同。垂向零位的清零误差导致工作台初始化失败,使得工作台后续垂向移动精度较低。
所以需要另外设置垂向测量的传感器计算垂向清零误差。一般情况下,垂向测量的传感器位于投影物镜下方,可实现垂向误差的测量。但是投影物镜下方若安装有浸没头时,浸没头占据了垂向测量的空间,若要实现对整个工作台实现垂向误差的测量,则一套干涉仪系统可能无法覆盖工作台的全行程,需要布置两套干涉仪系统,使得设备成本高。
发明内容
本发明实施例提供了一种工作台设备及工作台垂向清零误差的测量方法,以解决进行垂向清零误差的测量时,一套干涉仪系统无法覆盖工作台的全行程的问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种工作台设备,包括:投影物镜、主基板、工作台、控制器和垂向测量系统;所述垂向测量系统包括至少两个垂向测量器;
所述工作台位于所述主基板的一侧;所述投影物镜固定于所述主基板,用于将所述投影物镜输出的光线投射至所述工作台;所述工作台可在平行于所述主基板的方向上和垂直于所述主基板的方向上移动;
每个所述垂向测量器包括对应设置的光线发射器和光线接收器,设置于所述主基板靠近所述工作台的一侧;在垂直于所述主基板的平面内,对应设置的所述光线发射器和光线接收器均设置于所述投影物镜的浸没头的同一侧;所述光线接收器用于接收对应光线发射器发射的,并经所述工作台上第一测量点或第二测量点反射的测量光线,以使所述垂向测量器获取所述第一测量点和第二测量点的垂向高度;所述控制器用于根据所述第一测量点垂向高度和第二测量点的垂向高度获取所述工作台在垂向位置清零后的垂向清零误差。
可选的,所述垂向测量系统包括两个垂向测量器:第一垂向测量器和第二垂向测量器;所述第一垂向测量器包括对应设置的第一光线发射器和第一光线接收器;在垂直于所述主基板的第一平面内,第一光线发射器和第一光线接收器均设置于所述投影物镜的浸没头的一侧;所述第二垂向测量器包括对应设置的第二光线发射器和第二光线接收器;在垂直于所述主基板的第二平面内,所述第二光线发射器和所述第二光线接收器均设置于所述投影物镜的浸没头的一侧;所述第一垂向测量器用于获取所述第一测量点的垂向高度,所述第二垂向测量器用于获取所述第二测量点的垂向高度。
可选的,所述第一平面和所述第二平面重合;所述第一垂向测量器和所述第二垂向测量器分别设置于所述投影物镜的浸没头的相对两侧。
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