[发明专利]一种基于IGBT模块的母排的新型制备工艺有效
申请号: | 201910805965.0 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN110534437B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 宗荣生;戴赟彬;白艳;侯广西;蒋超 | 申请(专利权)人: | 宜兴市三鑫电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60 |
代理公司: | 无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙) 32208 | 代理人: | 蒋何栋 |
地址: | 214241 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 igbt 模块 新型 制备 工艺 | ||
本发明公开了一种基于IGBT模块的母排的新型制备工艺,可以实现在进行母排和电极等电子元器件时,抛弃传统的焊盘形式,采用新型的定位筒形式,通过预先设计的延伸型导电件,一方面实现稳定的电性连接,另一方面可以代替现有的工装实现初定位作用,在滴加焊膏后直接进入焊接工序,大幅降低成本和装配的繁琐性,使用的焊膏量与传统工艺比较大幅减少,仅需要极少量的焊膏滴加至定位筒中,即可实现精准、稳定的焊接,进而降低后续工艺的清洗压力,甚至在滴加量严格控制的情况下达到免清洗的地步,采用新型工艺制备的IGBT模块在成本和效率上具有无可比拟的优势,且规避了许多影响产品质量的因素,具有极高的市场推广价值。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种基于IGBT模块的母排的新型制备工艺。
背景技术
IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor),绝缘栅双极型晶体管,是由BJT(双极型三极管)和MOS(绝缘栅型场效应管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件,兼有MOSFET的高输入阻抗和GTR的低导通压降两方面的优点。GTR饱和压降低,载流密度大,但驱动电流较大;MOSFET驱动功率很小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。IGBT综合了以上两种器件的优点,驱动功率小而饱和压降低。非常适合应用于直流电压为600V及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域。
IGBT模块是由IGBT(绝缘栅双极型晶体管芯片)与FWD(续流二极管芯片)通过特定的电路桥接封装而成的模块化半导体产品;封装后的IGBT模块直接应用于变频器、UPS不间断电源等设备上;IGBT模块具有节能、安装维修方便、散热稳定等特点;当前市场上销售的多为此类模块化产品,一般所说的IGBT也指IGBT模块;随着节能环保等理念的推进,此类产品在市场上将越来越多见。
目前国内外的各种IGBT模块,其焊接工艺分为两次焊接和三次焊接两种。传统工艺为两次焊接工艺的焊接方式为:1、先将所需芯片焊接在衬板上,得到衬板组件;2、将衬板组件、母排、弹簧引线和基板焊接在一起,得到IGBT模块。
这种焊接工艺是基于焊膏进行的焊接,由于大量使用焊膏,焊接后得到的IGBT模块内残留有大量的助焊剂,对产品的质量造成不利影响,因此对焊接后的清洗过程要求很高,清洗的时间非常长,效率很低,不能适应大规模生产的要求。
为了解决上述问题,目前国内外一些IGBT模块制造企业普遍采用了三次焊接的工艺,三次焊接工艺的焊接方式为:1、将所需芯片焊接在衬板上,得到衬板组件;2、将衬板组件和基板焊接在一起,得到基板组件;3、在基板组件和母排、弹簧引线之间进行焊接,以及在基板组件和侧框之间涂胶固化,即所谓的一体化焊接和固化过程,之后得到IGBT模块。
其中前两次焊接过程采用焊片进行焊接,第三次焊接采用焊膏并同侧框涂胶固化过程结合在一起进行,这样焊接工序没有增加,但由于大大减少了焊膏的使用,对焊接后的清洗过程的要求大幅降低,清洗时间大幅缩短,因此适应了大批量生产的要求,但是在焊接过程中还是不可避免的会需要工装或者制具对芯片、母排等电子元器件进行定位固定,方能保证焊接质量,然而工装的安装和拆卸需要耗费大量的人力物力及时间,极大的降低了焊接效率,即使市面出现了无需拆卸的保留式工装,无疑增加了焊接成本,且空间利用率上大打折扣。
发明内容
1.要解决的技术问题
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宜兴市三鑫电子有限公司,未经宜兴市三鑫电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910805965.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造