[发明专利]光刻胶组合物、制作方法、基板及显示装置

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括以重量百分比计的：5-25％的亚克力系主体材料、0.5-2％的光引发剂、0.5-2％的可聚合单体、0.1-1％多官能团可交联聚合单体、0.1-1％的添加剂、以及余量的溶剂；

所述亚克力系主体材料为聚丙烯酸甲酯和聚丙烯酸的共聚物；

所述多官能团可交联聚合单体的分子中间有热敏性氮氧稳定自由基基团；所述多官能团可交联聚合单体为4-甲基丙烯酰氧基-1-1’-甲基丙烯酰氧基-苯乙基-TEMPO；或者，4-甲基丙烯酰氧基-1-1’-甲基丙烯酰氧基-丙酸甲酯基-TEMPO；

所述可聚合单体为丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸乙酯中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述光引发剂为硝基苯胺、蒽醌、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺中任意一种或多种的组合。

3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述添加剂包括阻聚剂、流平剂、消泡剂、以及稳定剂；

所述阻聚剂包括对苯二酚、2-仲丁基-4，6-二硝基苯酚、对叔丁基邻苯二酚和2和5-二特丁基对苯二酚中任意一种或多种的组合；

所述流平剂包括丙烯酸类化合物、有机硅类化合物和氟碳类化合物中任意一种或多种的组合；

所述消泡剂包括乳化硅油、高碳醇脂肪酸酯复合物、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚和聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚和聚二甲基硅氧烷中任意一种或多种的组合；

所述稳定剂异戊醇、正己醇、丙三醇和正己烷中任意一种或多种的组合。

4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述溶剂包括乙酸乙酯、四氢呋喃、二氧六环、三恶烷、乙酸正丁酯、乙酸叔丁酯、乙二醇单乙酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、N-甲基吡咯、丙二醇、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚和乙酸乙二醇乙醚中任意一种或多种的组合。

5.一种基板中膜层的制作方法，其特征在于，包括：

在目标膜层上涂覆光刻胶层，所述光刻胶层含如权利要求1-4中任一项所述的光刻胶组合物；

对所述光刻胶层进行曝光和显影，得到图形化的所述光刻胶层，图形化的所述光刻胶层中包含交联网络结构，所述交联网络结构由所述光刻胶组合物中的部分成分在光线作用下聚合生成；

以图形化的所述光刻胶层为掩膜，对所述目标膜层进行刻蚀；

对刻蚀后剩余的所述光刻胶层和图形化的所述目标膜层，在第一温度范围内进行热处理，使得所述光刻胶层中所述交联网络结构发生断裂；

对剩余的所述光刻胶层进行剥离。

6.根据权利要求5所述基板中膜层的制作方法，其特征在于，所述对剩余的所述光刻胶层和图形化的所述目标膜层，在第一温度范围内进行热处理，包括：

对图形化的所述光刻胶层和图形化的所述目标膜层，在CDA气氛中和130～230℃的范围内进行热处理。

7.根据权利要求5所述基板中膜层的制作方法，其特征在于，所述目标膜层为金属膜层、无机绝缘层、有源层或ITO层。

8.根据权利要求5所述基板中膜层的制作方法，其特征在于，所述交联网络结构的桥键包含氮氧稳定自由基基团；

所述交联网络结构发生断裂是桥键的碳氧键发生断裂。

9.一种基板，其特征在于，所述基板中膜层采用权利要求5-8中任一项所述的制作方法制成。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的基板。