[发明专利]光刻胶组合物、制作方法、基板及显示装置

说明书

本申请提供一种光刻胶组合物、制作方法、基板及显示装置。该光刻胶组合物包括以重量百分比计的：5‑25％的亚克力系主体材料、0.5‑2％的光引发剂、0.5‑2％的可聚合单体、0.1‑1％多官能团可交联聚合单体、0.1‑1％的添加剂、以及余量的溶剂。该制作方法包括：在目标膜层上涂覆光刻胶层，光刻胶层含光刻胶组合物；对光刻胶层进行对准曝光，进行显影，对目标膜层进行刻蚀；在第一温度范围内进行热处理，光刻胶层中交联网络结构发生断裂，对图形化的光刻胶层进行剥离。该基板中膜层由上述制作方法制成。该显示装置包括上述基板。本申请能够解决现有的光刻胶剥离不完全带来的光刻胶残留、基板质量差或显示装置显示质量差的问题。

技术领域

本申请涉及高分子材料及其应用领域，尤其涉及一种光刻胶组合物、制作方法、基板及显示装置。

背景技术

光刻工艺是薄膜晶体管阵列制造过程中必不可少的一道制程，起到图案转移的作用。通过对薄膜进行清洗、光刻胶涂覆、曝光、显影、后烘等工序，将设计好的掩膜图案转移到薄膜上，之后经过刻蚀和光刻胶剥离工序在薄膜中形成目标图案。

光刻工艺的实施离不开光刻胶，光刻胶的主体成分是一类含光敏性基团的聚合物，在紫外光照条件下，受光照部分光敏基团发生化学变化，导致光刻胶感光部分和遮光部分在显影液中溶解性产生差异，从而在显影后实现图案转移。

但是，在制作工艺上常常出现光刻胶剥离不完全的情况，导致光刻胶残留的问题，从而使得采用该光刻胶制作的基板产生质量问题，进而使得带有该基板制作显示装置，往往会出现暗点、斑等不良的问题，影响显示质量。

发明内容

本申请的目的旨在提供一种光刻胶组合物、制作方法、基板及显示装置，用以解决现有的光刻胶剥离不完全带来的光刻胶残留、基板质量差或显示装置显示质量差的技术问题。

为了实现上述目的，第一方面，本申请提供一种光刻胶组合物，包括以重量百分比计的：5-25％的亚克力系主体材料、0.5-2％的光引发剂、0.5-2％的可聚合单体、0.1-1％多官能团可交联聚合单体、0.1-1％的添加剂、以及余量的溶剂；

亚克力系主体材料为聚丙烯酸甲酯和聚丙烯酸的共聚物；

多官能团可交联聚合单体为4-甲基丙烯酰氧基-1-1’-甲基丙烯酰氧基-苯乙基-TEMPO；或者，4-甲基丙烯酰氧基-1-1’-甲基丙烯酰氧基-丙酸甲酯基-TEMPO；

可聚合单体为丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸乙酯中的至少一种。

可选地，光引发剂为硝基苯胺、蒽醌、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺中任意一种或多种的组合。

可选地，添加剂包括阻聚剂、流平剂、消泡剂、以及稳定剂；

阻聚剂包括对苯二酚、2-仲丁基-4，6-二硝基苯酚、对叔丁基邻苯二酚和2和5-二特丁基对苯二酚中任意一种或多种的组合；

流平剂包括丙烯酸类化合物、有机硅类化合物和氟碳类化合物中任意一种或多种的组合；

消泡剂包括乳化硅油、高碳醇脂肪酸酯复合物、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚和聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚和聚二甲基硅氧烷中任意一种或多种的组合；

稳定剂异戊醇、正己醇、丙三醇和正己烷中任意一种或多种的组合。

可选地，溶剂包括乙酸乙酯、四氢呋喃、二氧六环、三恶烷、乙酸正丁酯、乙酸叔丁酯、乙二醇单乙酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、N-甲基吡咯、丙二醇、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚(PM)和乙酸乙二醇乙醚中任意一种或多种的组合。

第二方面，本申请还提供一种基板中膜层的制作方法，包括：