[发明专利]极紫外光微影收集器的清洁方法在审

专利信息
申请号: 201910814730.8 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110874024A 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 訾安仁;林进祥;张庆裕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B08B3/08
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 紫外光 收集 清洁 方法
【权利要求书】:

1.一种极紫外光微影收集器的清洁方法,其特征在于,该方法包含:

对一极紫外光辐射源反应室中的该极紫外光微影收集器的一表面施加一清洁化合物,该极紫外光微影收集器具有多个残余物在该极紫外光微影收集器的该表面上,

其中该清洁化合物包含:具25>δd>15、25>δp>10、与30>δh>6的多个汉森溶解度参数的一主要溶剂;以及具-15<pKa<4的一酸解离常数pKa的酸;

从该极紫外光微影收集器的该表面移除所述多个残余物;以及

从该极紫外光辐射源反应室移除该清洁化合物。

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