[发明专利]镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜设备，包括：

一加工腔室；

一旋转装置，设置于该加工腔室中；

一旋转承载座，连接至该旋转装置，且包括：

两个延伸元件，围绕一中心轴设置且相互分离，其中所述延伸元件的每一个具有一侧面；

两个容纳元件，其中所述容纳元件的每一个具有一底面，所述容纳元件的其中一个连接至所述侧面的其中一个，且所述容纳元件的另一个连接至所述侧面的另一个；及

两个销，其中所述销的其中一个连接至所述底面的其中一个，且所述销的另一个连接至所述底面的另一个；以及

蒸镀装置，设置于该加工腔室中以及该旋转承载座下方，其中该蒸镀装置配置以朝向一目标对象施加一镀膜材料。

2.如权利要求1所述的镀膜设备，其中该目标对象放置于所述销上，并位于所述容纳元件之间，该中心轴通过该目标对象的一中心，所述延伸元件、所述容纳元件和所述销围绕该中心轴，且所述销朝向该中心轴延伸。

3.如权利要求2所述的镀膜设备，其中所述销和该中心轴之间的距离小于所述容纳元件和该中心轴之间的距离，所述容纳元件的一长度介于4mm至10mm的范围内，且所述容纳元件的该长度在垂直于该中心轴的方向上测量，所述销的一长度介于4mm至10mm的范围内，且所述销的该长度在垂直于该中心轴的方向上测量。

4.如权利要求2所述的镀膜设备，其中所述销的一厚度介于1mm至3mm的范围内，所述销的该厚度在平行于该中心轴的方向上测量，该旋转装置配置以将该旋转承载座围绕一主轴旋转，该旋转承载座垂直于该主轴延伸，该主轴平行于该中心轴且与该中心轴分离。

5.如权利要求2所述的镀膜设备，该目标对象具有一对位标记和一识别标记，且所述销的其中一个覆盖该对位标记或该识别标记。

6.如权利要求2所述的镀膜设备，其中该旋转承载座还包括：

一主底座，连接至该旋转装置；以及

两个支撑框架，其中所述支撑框架的其中一个连接至所述延伸元件的其中一个及该主底座，且所述支撑框架的另一个连接至所述延伸元件的另一个及该主底座，

其中一底部空间形成于所述支撑框架之间，一接收空间形成于所述延伸元件的所述侧面之间，并与该底部空间连通，且所述容纳元件及所述销位于该接收空间中。

7.如权利要求6所述的镀膜设备，其中该中心轴通过该底部空间的中心和该接收空间的中心，该底部空间的宽度大于该接收空间的宽度，且该底部空间和该接收空间的所述宽度在垂直于该中心轴的方向测量，该底部空间的该宽度是该接收空间的该宽度的1.01倍至1.1倍，该接收空间的该宽度比该目标对象的宽度大4mm至20mm，且该底部空间的该宽度比该目标对象的该宽度大28mm至64mm。

8.如权利要求6所述的镀膜设备，其中所述支撑框架的每一个具有一侧面，所述延伸元件的每一个还具有一底面，所述底面的其中一个连接至所述支撑框架的所述侧面的其中一个，且所述底面的另一个连接至所述支撑框架的所述侧面的另一个，

其中所述支撑框架的所述侧面垂直于所述延伸元件的所述底面延伸，

其中在一剖视图中，所述延伸元件的所述侧面为弯曲表面，所述容纳元件的所述底面为平坦表面，且在一平面图中，所述延伸元件的所述侧面和所述容纳元件的所述底面呈C字形，

其中所述支撑框架的每一个还具有一侧面，所述容纳元件的一端和所述支撑框架的所述侧面之间在垂直于所述侧面的方向上的距离介于18mm至30mm的范围内，且所述支撑框架的所述侧面接近于所述容纳元件。

9.如权利要求1所述的镀膜设备，还包括：

一真空装置，连接至该加工腔室，且配置以使该加工腔室真空；以及

一离子辅助沉积装置，设置于该加工腔室中，且配置以发射离子至该旋转承载座，

其中一间隙形成于所述延伸元件的两相邻端部之间。

10.如权利要求1所述的镀膜设备，其中所述延伸元件的所述侧面垂直于所述容纳元件的所述底面延伸，在一剖视图中，所述延伸元件的所述侧面为弯曲表面，所述容纳元件的所述底面为平坦表面，且在一平面图中，所述延伸元件的所述侧面和所述容纳元件的所述底面呈C字形。