[发明专利]一种高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法有效
申请号: | 201910815771.9 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN110511027B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 吕滨;王鑫源;任桂平;冯凯;刘永兴 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50 |
代理公司: | 锦州辽西专利事务所(普通合伙) 21225 | 代理人: | 王佳佳 |
地址: | 315211 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 质量 氧化 透明 陶瓷 制备 方法 | ||
1.一种高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:
(1)硫酸铥溶液的配制
将过量的氨水溶液滴加到硝酸铥母盐溶液中,滴加过程中持续搅拌,滴加结束后继续搅拌10min,将得到的悬浊液用去离子水经离心、过滤洗涤后得到滤饼;再在滤饼中加入稀硫酸,所述硝酸铥中铥离子Tm3+与硫酸的硫酸根离子SO42-的摩尔比为2:3,配制成浓度为0.01mol/L~0.2mol/L硫酸铥溶液;
(2)氧化铥前躯体的制备
将配制好的硫酸铥溶液在水浴中加热至70℃~90℃,向硫酸铥溶液中滴加六亚甲基四胺溶液,滴加结束后,再向溶液中加入正硅酸乙酯溶液TEOS,并在70℃~90℃水浴陈化0.5h~24h,用去离子水过滤洗涤数次,洗涤液经氯化钡溶液检测无沉淀生成后,再用无水乙醇进行多次醇洗后获得氧化铥前驱体沉淀,烘干,获得前驱体粉末;所述正硅酸乙酯TEOS与硝酸铥母盐溶液中铥离子的摩尔比为0.009:1;
(3)制备含有二氧化硅烧结助剂的氧化铥纳米粉末
将步骤(2)制备的前驱体粉末在氧气气氛下进行煅烧,获得含有二氧化硅烧结助剂的纳米氧化铥粉末;
(4)成型、真空烧结氧化铥透明陶瓷
对含有二氧化硅烧结助剂的氧化铥粉末先预压、再冷等静压成型后,采用高温真空烧结结合后续的机械加工之后,获得氧化铥透明陶瓷。
2.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(1)中,硝酸铥母盐溶液是将纯度≥99.99%氧化铥在过量硝酸溶液中溶解,待到溶液成透明状,然后蒸发浓缩,随后冷却至室温加入蒸馏水中而获得的;或将纯度≥99.95%的硝酸铥溶于去离子水中配制而成的。
3.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(1)中,所述硝酸铥溶液的浓度为0.3mol/L,硝酸铥溶液的使用量为200mL,氨水溶液的浓度为0.9mol/L,定量氨水的量为200mL,过量氨水的量的范围记为10mL~50mL。
4.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(2)中,硫酸铥溶液中铥离子与六亚甲基四胺HMTA的摩尔比为1:2.5~1:7,所述六亚甲基四胺溶液浓度为0.5mol/L;向硫酸铥母盐溶液中滴加六亚甲基四胺溶液时,六亚甲基四胺HMTA溶液的滴加速度为1mL/min~10mL/min。
5.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(2)中,去离子水洗涤的次数为2次~8次,醇洗的次数为1次~5次;烘箱的烘干温度为70℃~90℃,烘干时间为12h~36h。
6.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(3)中,煅烧时,煅烧温度为900℃~1000℃,煅烧时间为1h~6h。
7.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(4)中,冷等静压成型时,压强为100MPa~400MPa。
8.根据权利要求1所述的高光学质量的氧化铥透明陶瓷的制备方法,其特征是:步骤(4)中,高温真空烧结的条件为:真空度为10-2Pa~10-6Pa,烧结温度为1750℃~1900℃,烧结时间为2h~24h。
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