[发明专利]显示面板、显示装置及显示面板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201910817852.2 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110783382A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 梁超;陶国胜;刘如胜 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 11659 北京远智汇知识产权代理有限公司 代理人: 范坤坤
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素限定层 第二电极 像素区 第一电极 第一基板 隔离结构 显示面板 隔离槽 显示区 像素开口 发光层 隔离区 子像素 透光基板 显示装置 自动隔断 隔断 制作
【说明书】:

发明公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。其中,显示面板至少包括第一显示区,第一显示区具有第一子像素,第一显示区包括:第一基板,第一基板为透光基板;位于第一基板一侧的第一电极和第一像素限定层,第一像素限定层位于第一电极上;其中,第一像素限定层包括多个像素区和隔离区;每个像素区包括至少一个第一像素开口,每个第一像素开口内包括层叠的第一发光层和第二电极,第一子像素包括第一电极、第一发光层和第二电极;每个隔离区包括一个隔离槽,隔离槽内设置有隔离结构,隔离结构用于隔断相邻两个像素区的第二电极。本发明通过在第一像素限定层的隔离槽中设置隔离结构,实现了对相邻两个像素区的第二电极的自动隔断。

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。

背景技术

随着显示终端的快速发展,用户对屏幕占比的要求越来越高,使得显示终端的全面屏显示受到业界越来越多的关注。现有技术中的全面屏多为开槽或开孔的方式,如苹果的刘海屏等,均是在摄像头、传感器等元件对应的显示屏区域开槽或开孔。在实现拍照功能时,外部光线通过显示屏上的槽或孔射入显示屏下方的摄像头,从而实现拍照。但是,不论是刘海屏还是打孔屏,均不是真正的全面屏,因此,业界急需研发出真正的全面屏。

发明内容

基于此,有必要针对上述问题,有必要提供一种基于全面屏的显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,至少包括第一显示区,所述第一显示区具有第一子像素,所述第一显示区包括:

第一基板,所述第一基板为透光基板;

位于所述第一基板一侧的第一电极和第一像素限定层,所述第一像素限定层位于所述第一电极上;

其中,所述第一像素限定层包括多个像素区和隔离区;每个所述像素区包括至少一个第一像素开口,每个所述第一像素开口内包括层叠的第一发光层和第二电极,所述第一子像素包括所述第一电极、所述第一发光层和所述第二电极;每个所述隔离区包括一个隔离槽,所述隔离槽内设置有隔离结构,所述隔离结构用于隔断相邻两个所述像素区的所述第二电极。

可选地,所述第一子像素为被动驱动方式发光;所述像素区和所述隔离区在第一方向上交替排布,每个所述像素区包括至少一个沿第二方向排布的所述第一像素开口,所述隔离槽及所述隔离结构均沿所述第二方向延伸,所述第一方向和所述第二方向相交。

可选地,所述隔离结构的高度小于或等于所述第一像素限定层的高度;或者,所述第一像素限定层上设置有支撑柱,所述支撑柱用于支撑蒸镀用掩模板,所述隔离结构的高度小于或等于所述支撑柱的高度;

优选地,所述隔离槽的深度小于所述第一像素开口的深度;

优选地,所述隔离结构的厚度范围为1μm~2μm;

优选地,所述隔离槽包括两个相对的且平行于所述隔离槽的延伸方向的侧壁,所述隔离结构与至少一个所述侧壁不接触。

可选地,所述隔离结构包括层叠的支撑部和隔断部,所述支撑部与所述隔离槽的底部接触,所述隔断部的靠近相邻像素区的至少一侧凸出于所述支撑部设置;

优选地,所述支撑部和所述隔断部一体成型;

优选地,所述隔离结构呈T型或者倒梯形;

优选地,所述隔离结构的材料包括透明有机胶;

优选地,所述透明有机胶包括光敏胶。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910817852.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top