[发明专利]基板承载装置和涂胶显影设备有效
申请号: | 201910818933.4 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN110491816B | 公开(公告)日: | 2022-01-21 |
发明(设计)人: | 嘉国锋;张翠 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/683 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 承载 装置 涂胶 显影 设备 | ||
本公开提供了一种基板承载装置和涂胶显影设备,属于显示技术领域。该基板承载装置包括相对设置的两个承载机构,以及位于两个所述承载机构之间的驱动机构;任一所述承载机构包括导向组件和多个支撑件,其中,导向组件包括相互配合的导向件和运动件,所述导向件用于引导所述运动件沿预设轨迹运动;多个支撑件固定于所述运动件,且用于共同承载所述基板;其中,所述驱动机构能够同时驱动两个所述承载机构的运动件运动。本公开的基板承载装置能够避免损伤基板。
技术领域
本公开涉及显示技术领域,尤其涉及一种基板承载装置和涂胶显影设备。
背景技术
在显示面板的制备过程中,经常使用轨道工艺(涂胶-曝光-显影工艺)。其中,在进行曝光前,需要调整两个基板之间的间距,以使得两个基板与曝光机相匹配。
在现有技术中,基板置于固定的支撑针上;当需要改变基板之间的间距时,通过驱动机构推动玻璃在支撑针上滑动。然而,基板与支撑针之间相对运动时,基板容易被划伤且容易产生静电,降低了显示面板的良率。
所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的目的在于提供一种基板承载装置和涂胶显影设备,避免损伤基板。
为实现上述发明目的,本公开采用如下技术方案:
根据本公开的第一个方面,提供一种基板承载装置,包括相对设置的两个承载机构,以及位于两个所述承载机构之间的驱动机构;任一所述承载机构包括:
导向组件,包括相互配合的导向件和运动件,所述导向件用于引导所述运动件沿预设轨迹运动;
多个支撑件,固定于所述运动件,且用于共同承载所述基板;
其中,所述驱动机构能够同时驱动两个所述承载机构的运动件运动。
在本公开的一种示例性实施例中,所述导向件为导轨,所述运动件为与所述导轨配合的滑块。
在本公开的一种示例性实施例中,所述支撑件包括与所述运动件连接的支撑针;同一所述承载机构中,各个所述支撑针远离所述运动件的一端位于同一平面。
在本公开的一种示例性实施例中,任一所述承载机构还包括支撑板;
同一所述承载机构中,所述支撑板固定于所述运动件,且所述支撑件固定于所述支撑板且向远离所述运动件的一侧延伸。
在本公开的一种示例性实施例中,同一所述承载机构中,所述支撑板的数量为多个,且任一所述支撑板固定有多个所述支撑件。
在本公开的一种示例性实施例中,同一所述承载机构中,所述导向组件的数量为多个,且各个所述运动件的预设轨迹相互平行,所述支撑板固定于所有所述运动件。
在本公开的一种示例性实施例中,所述运动件的预设轨迹为直线;所述驱动机构能够同时驱动两个所述承载机构的运动件向相反的方向运动。
在本公开的一种示例性实施例中,所述驱动机构包括:
旋转轴,所述旋转轴的轴线方向垂直于各个所述支撑件的运动轨迹所在的平面;
两个驱动端,分别与所述驱动轴固定连接;
其中,两个所述承载机构的运动件靠近所述旋转轴的一侧,与两个所述驱动端一一对应地配合。
在本公开的一种示例性实施例中,所述驱动机构包括:
旋转轴,所述旋转轴的轴线方向垂直于各个所述支撑件的运动轨迹所在的平面;
两个驱动端,分别与所述驱动轴固定连接;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造