[发明专利]半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910821879.9 申请日: 2019-09-02
公开(公告)号: CN112435978A 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 黄圣富;施信益 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L23/492 分类号: H01L23/492;H01L25/07;H01L21/48;H01L23/535
代理公司: 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 代理人: 席勇;董云海
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

发明公开了一种半导体装置及其制造方法,半导体装置包含第一半导体晶圆、第二半导体晶圆以及第一导电通道。第一半导体晶圆包含第一基板以及设置在第一基板的顶面的至少一个第一导电层。第二半导体晶圆设置在第一半导体晶圆上。第二半导体晶圆包含第二基板以及设置在第二基板的顶面的第一导电垫。第一导电通道由第一导电垫延伸至第一导电层。如此一来,第一半导体晶圆的半导体元件可通过第一导电通道电性连接第二半导体晶圆的半导体元件。

技术领域

本发明是有关于一种半导体装置及一种半导体装置的制造方法。

背景技术

近年来,由于各种电子元件(即晶体管、二极管、电阻器或电容器)的集成密度的不断提升,使得半导体产业快速成长。集成密度的提升来自最小特征尺寸的反复减缩,以允许更多元件集成至给定的区域中。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种半导体装置,其第一半导体晶圆的半导体元件可通过第一导电通道电性连接第二半导体晶圆的半导体元件。

根据本发明一实施方式,半导体装置包含第一半导体晶圆、第二半导体晶圆以及第一导电通道。第一半导体晶圆包含第一基板以及设置在第一基板的顶面的至少一个第一导电层。第二半导体晶圆设置在第一半导体晶圆上。第二半导体晶圆包含第二基板以及设置在第二基板的顶面的第一导电垫。第一导电通道由第一导电垫延伸至第一导电层。

在本发明一实施方式中,第一半导体晶圆还包含设置在第一基板的顶面的第一绝缘层。第一导电层的顶面与第一绝缘层的顶面实质上共平面。

在本发明一实施方式中,第一半导体晶圆还包含设置在第一基板的底面的第二导电垫。半导体装置还包含由第一导电层延伸至第二导电垫的第二导电通道。

在本发明一实施方式中,第一半导体晶圆还包含第一模压层以及第一重分布层。第一模压层设置在第一基板的底面,且第二导电垫的底面与第一模压层的底面实质上共平面。第一重分布层设置在第一模压层的底面,且第二导电垫接触第一重分布层。

在本发明一实施方式中,第一半导体晶圆包含多个第一导电层,且第一导电层堆叠在第一基板的顶面。

在本发明一实施方式中,第一半导体晶圆还包含多个第一互连结构,分别设置在第一导电层之间。

在本发明一实施方式中,第二半导体晶圆还包含设置在第二基板的底面的至少一个第二导电层。半导体装置还包含由第一导电垫延伸至第二导电层的第三导电通道。

在本发明一实施方式中,第二半导体晶圆还包含设置在第二基板的底面的第二绝缘层,且第二导电层的底面与第二绝缘层的底面实质上共平面。

在本发明一实施方式中,第二半导体晶圆包含多个第二导电层,且第二导电层堆叠在第二基板的底面。

在本发明一实施方式中,第二半导体晶圆还包含多个第二互连结构,分别设置在第二导电层之间。

在本发明一实施方式中,第二半导体晶圆还包含第二模压层以及第二重分布层。第二模压层设置在第二基板的顶面,且第一导电垫的顶面与第二模压层的顶面实质上共平面。第二重分布层设置在第二模压层的顶面,且第一导电垫接触第二重分布层。

在本发明一实施方式中,半导体装置还包含设置在第一半导体晶圆与第二半导体晶圆之间的粘胶层。

本发明的另一目的在于提供一种半导体装置的制造方法,其制造的半导体装置的第一导电通道可形成第一半导体晶圆与第二半导体晶圆之间的内连接。

根据本发明一实施方式,半导体装置的制造方法包含:在第一基板的顶面形成至少一个第一导电层;接合第二基板至第一基板的顶面;形成第一通孔穿过第二基板;在第一通孔中形成第一导电通道,使得第一导电通道由第二基板的顶面延伸至第一导电层;以及在第二基板的顶面形成第一导电垫,使得第一导电垫接触第一导电通道。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南亚科技股份有限公司,未经南亚科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910821879.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top