[发明专利]掩膜版有效
| 申请号： | 201910822447.X | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110423983B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 杜帅;冯宏庆;郑勇;丁文彪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜版 | ||
1.一种掩膜版，包括掩膜图案区以及位于所述掩膜图案区四周的非掩膜图案区，其特征在于，
所述掩膜图案区与所述非掩膜图案区的分界为非直线型几何图形，所述几何图形向所述掩膜图案区凹陷，所述几何图形用于在掩膜版处于张网状态时分解作用在掩膜图案区与非掩膜图案区的非直线型几何图形分界上的拉力；
所述掩膜图案区内设置有至少一个有效掩膜区，所述非掩膜图案区内设置有固定区，所述固定区用于固定所述掩膜版，所述几何图形位于所述固定区的相对面。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述几何图形为弧形。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述几何图形为多边形。
4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版为矩形，所述固定区位于所述掩膜版的长边的两端，所述掩膜版的长边中心线为所述几何图形的对称中心线。
5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，每个所述几何图形自身为轴对称图形，对称轴为所述掩膜版的短边中心线。
6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述几何图形各点与其紧邻所述掩膜版的短边的最小距离应大于200微米。
7.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜图案区包括至少一个有效掩膜区，所述掩膜版的长边中心线为所述有效掩膜区的对称中心线。
8.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版为矩形，所述固定区位于所述掩膜版的短边的两端，所述掩膜版的短边中心线为所述几何图形的对称中心线。
9.根据权利要求8所述的掩膜版，其特征在于，每个所述几何图形自身为轴对称图形，对称轴为所述掩膜版的长边中心线。
10.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述几何图形各点与其紧邻的所述掩膜版的长边的最小距离应大于200微米。
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