[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201910822551.9 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110871153B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 西冈贤太郎 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇;宋晓宝
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,其特征在于,

具有:

喷嘴单元,具有从狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴;

移动机构,在与所述喷嘴的长度方向正交的行进方向上,在基板的上方使所述喷嘴单元相对于所述基板相对移动;以及

异常检测机构,在异常检测区域检测所述基板的异常,所述异常检测区域在所述行进方向上位于所述喷嘴单元的前方侧,

所述异常检测机构具有多个检测部,所述多个检测部在所述长度方向上隔着所述异常检测区域相对配置的投光器及受光器之间照射激光光线,通过所述多个检测部分别在不同的有效检测范围内检测所述异常,

所述多个检测部以多条激光光线中的接近激光光线与所述行进方向倾斜地交叉的方式配置,所述接近激光光线部分地通过接近所述喷嘴单元的喷嘴接近区域,

所述接近激光光线的所述有效检测范围相比所述喷嘴接近区域更靠所述行进方向的前方侧设定。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

所述异常检测机构具有作为所述多个检测部的第一检测部及第二检测部,

在所述长度方向的一侧,所述第一检测部的所述投光器相比所述第二检测部的受光器更靠所述行进方向的前方侧配置,

在所述长度方向的另一侧,所述第二检测部的所述投光器相比所述第一检测部的受光器更靠所述行进方向的前方侧配置,

所述第一检测部及所述第二检测部的所述有效检测范围均设定在所述投光器侧。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述异常检测机构还具有作为所述多个检测部的第三检测部,

在所述长度方向的一侧,所述第三检测部的所述投光器及所述受光器中的一个在所述行进方向上配置在所述第一检测部的所述投光器和所述第二检测部的受光器之间,

在所述长度方向的另一侧,所述第三检测部的所述投光器及所述受光器中的另一个在所述行进方向上配置在所述第二检测部的所述投光器与所述第一检测部的受光器之间,

所述第三检测部的所述有效检测范围被设定在所述投光器及所述受光器的中间。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,

在所述长度方向的一侧,所述第三检测部的所述投光器及所述受光器中的一个与所述第一检测部的所述投光器接近配置,

在所述长度方向的另一侧,所述第三检测部的所述投光器及所述受光器中的另一个与所述第二检测部的所述投光器接近配置。

5.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,

所述异常检测机构还具有作为所述多个检测部的第三检测部,

在所述长度方向的一侧,所述第三检测部的所述投光器及所述受光器中的一个相比所述第一检测部的所述投光器更靠所述行进方向的前方侧配置,

在所述长度方向的另一侧,所述第三检测部的所述投光器及所述受光器中的另一个相比所述第二检测部的所述投光器更靠所述行进方向的前方侧配置。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

所述喷嘴接近区域的所述行进方向的长度根据使相对于所述基板相对移动的所述喷嘴单元紧急停止所需的时间来设定。

7.一种基板处理方法,其特征在于,

包括:

处理液供给工序,在基板的上方使具有喷嘴的喷嘴单元在与所述喷嘴的长度方向正交的行进方向上相对于所述基板相对移动,并向所述基板供给所述处理液,所述喷嘴从狭缝状的喷出口喷出处理液;

异常检测工序,设置多个检测部,并通过所述多个检测部分别在不同的有效检测范围内检测所述异常,所述多个检测部在所述长度方向上隔着位于所述喷嘴单元的前方侧的异常检测区域相对配置的投光器及受光器之间照射激光光线;以及

停止工序,若检测到所述基板的异常,则紧急停止所述喷嘴单元相对于所述基板的相对移动,

所述异常检测工序是如下工序:使多条激光光线中的接近激光光线与所述行进方向倾斜地交叉,并且使所述接近激光光线的所述有效检测范围相比所述喷嘴接近区域更靠所述行进方向的前方侧来执行所述异常检测,所述接近激光光线部分地通过接近所述喷嘴单元的喷嘴接近区域。

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