[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效
申请号: | 201910822551.9 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN110871153B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 西冈贤太郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;宋晓宝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
本发明提供一种基板处理装置,具有充裕时间且在喷嘴单元的前方侧检测基板上的异物或基板的表面的隆起等基板的异常部位。该装置从喷嘴喷出处理液并使具有该喷嘴的喷嘴单元相对于基板相对移动来向基板供给处理液,在与喷嘴的长度方向正交的行进方向上设置在喷嘴单元的前方侧的异常检测机构具有多个检测部,多个检测部在长度方向上隔着异常检测区域相对配置的投光器及受光器之间照射激光光线,通过多个检测部分别在不同的有效检测范围检测异常,多个检测部以多条激光光线中的接近激光光线与行进方向倾斜地交叉的方式配置,接近激光光线部分地通过接近喷嘴单元的喷嘴接近区域,接近激光光线的有效检测范围相比喷嘴接近区域更靠近行进方向的前方侧。
技术领域
本发明涉及一种一边从喷嘴喷出处理液一边使喷嘴相对于基板相对移动来向基板供给处理液的基板处理装置及基板处理方法。
背景技术
作为从喷嘴向基板供给处理液的基板处理装置的一个例子,已知如专利第4105613号所记载的基板处理装置。该基板处理装置在使喷嘴的顶端与基板接近的状态,使喷嘴相对于基板相对移动来向基板表面供给处理液。因此,如果在发生在基板的表面附着异物的异常、在基板与工作台之间夹着异物而形成基板隆起的状态的异常等情况下,继续进行基板处理,则会导致与喷嘴接触。因此,在上述基板处理装置中,为了检测异常,在喷嘴相对于基板的行进方向(扫描方向)的前方侧设置多个透过型的激光传感器。这些激光传感器相对于基板的表面大致平行且沿上述行进方向(扫描方向)排列设置(参考之后说明的图5)。利用各激光传感器对异物的检测方向为与上述行进方向大致垂直的方向(相当于喷嘴的长度方向及基板的宽度方向)。另外,这些激光传感器分别具有不同的有效检测范围。因此,对于宽度比较大的基板,也能够良好地检测基板的表面上的异常,若检测到异常,则立即停止喷嘴的相对移动,防止喷嘴与基板上的异物或隆起的基板的表面(下面,将这些称作“基板的异常部位”)相接触。
在专利第4105613号所记载的装置中,设置在上述行进方向上在喷嘴的前方侧附近配置激光传感器的区域(相当于本发明的“异常检测区域”),与该异常检测区域对应地在行进方向上排列设置多个激光传感器。因此,位于最靠近喷嘴侧的激光传感器即最接近激光传感器的全部激光光线通过异常检测区域的喷嘴接近区域(参照图5的附图标记841),最接近激光传感器的有效检测范围也存在于喷嘴接近区域。因此,从最接近激光传感器执行异常检测到该检测部位到达喷嘴为止所需要的时间少于直至喷嘴通过喷嘴接近区域所需要的时间。其结果,即使与最接近激光传感器执行的异常检测相对应地使基板紧急停止,也会发生基板的异常部位与喷嘴相接触的情况。此外,关于这一点将在后面参考图5进行详细说明。
在此,为了解决上述问题,考虑使喷嘴充分远离异常检测区域。但是,激光传感器与喷嘴的分离会导致装置的大型化及成本的增加。例如,在日本特开2018-43200号公报所记载的装置中,需要在喷嘴相对于基板的相对行进方向中被限制的范围即精密浮起部(相当于后面说明的实施方式中的“涂敷工作台”)执行异常检测。因此,异常检测区域与喷嘴分离即分离设置喷嘴与激光传感器,不可避免地会导致精密浮起部的大型化,随之,会导致成本的增加。
此外,这些问题不仅会发生于具有因基板的异常而导致喷嘴与基板的异常部位接触的结构的基板处理装置,还会发生于具有喷嘴上安装的配件例如后述的喷嘴挡板与基板的异常部位相接触的结构的装置。即,上述课题在具有下述结构的基板处理装置中是相同的,即,因基板发生异常而导致具有从狭缝状的喷出口喷出处理液的喷嘴的喷嘴单元会与基板的异常部位接触的结构。
发明内容
本发明鉴于上述问题提出,其目的在于,提供一种基板处理装置及基板处理方法,能够具有充裕的时间且在喷嘴单元的前方侧检测基板上的异物或基板的表面的隆起等基板的异常部位。
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