[发明专利]提高系统DRAM可靠性的方法、装置和存储介质在审

专利信息
申请号: 201910826187.3 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN112447225A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 刘凤鹏;刘冬梅 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: G11C11/4074 分类号: G11C11/4074;G11C29/50
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 张婷
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 提高 系统 dram 可靠性 方法 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述提高系统DRAM可靠性的方法包括以下步骤:

获得DRAM的表现电压,对所述表现电压的电压值进行可靠性校验;

根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值;

根据所述电压偏差值对所述DRAM的供电电压进行调整。

2.如权利要求1所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述根据所述电压偏差值对所述DRAM的供电电压进行调整的步骤之后包括:

在对所述DRAM的供电电压进行调整后,重新对所述表现电压的电压值进行可靠性校验;

若校验结果是失败,则返回步骤:根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的电压偏差值。

3.如权利要求1或2所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值的步骤包括:

若所述校验结果是失败,则对所述供电电压的电压测试值增加一个预设电压增量值,获得新的供电电压的电压测试值。

4.如权利要求1或2所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值的步骤还包括:

若所述校验结果是成功,则对所述供电电压的电压测试值减少一个预设电压减少值,获得新的供电电压的电压测试值。

5.如权利要求1所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述提高系统DRAM可靠性的方法还包括:

获得DRAM的供电电容值,按照预设规则调整DRAM的供电电容值获得调整后的DRAM电容值,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压大于或等于预设门限电压。

6.如权利要求5所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述获得DRAM的供电电容值,按照预设规则调整DRAM的供电电容值获得调整后的DRAM电容值,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压大于或等于预设门限电压的步骤包括:

根据所述电压偏差值确定所述DRAM的供电电压值是否变化;

若所述DRAM的供电电压值变化,则将所述DRAM的电容值减少一个预设电容减少值,获得调整后的电容测试值,并对调整后的电容进行可靠性校验;

若所述可靠性校验结果为所述表现电压小于预设门限电压,则返回步骤:将所述DRAM的电容值减少一个预设电容减少值,获得调整后的电容测试值,并对调整后的电容进行可靠性校验,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压大于或等于预设门限电压。

7.如权利要求6所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述获得DRAM的供电电容值,按照预设规则调整DRAM的供电电容值获得调整后的DRAM电容值,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压大于或等于预设门限电压的步骤还包括:

若所述DRAM的供电电压值不变化,则将所述DRAM的电容值增加一个预设电容增加值,获得调整后的电容测试值,并对调整后的电容进行可靠性校验;

若所述可靠性校验结果为所述表现电压大于或等于预设门限电压,则返回步骤:将所述DRAM的电容值增加一个预设电容增加值,获得调整后的电容测试值,并对调整后的电容进行可靠性校验,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压小于预设门限电压。

8.如权利要求5-7中任一项所述的提高系统DRAM可靠性的方法,其特征在于,所述电容为可变电容。

9.一种提高系统DRAM可靠性的装置,其特征在于,所述提高系统DRAM可靠性的装置包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的提高系统DRAM可靠性的程序,所述提高系统DRAM可靠性的程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至8中任一项所述提高系统DRAM可靠性的方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有提高系统DRAM可靠性的程序,所述提高系统DRAM可靠性的程序被处理器执行时实现如权利要求1至8中任一项所述提高系统DRAM可靠性的方法的步骤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中兴通讯股份有限公司,未经中兴通讯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910826187.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top