[发明专利]提高系统DRAM可靠性的方法、装置和存储介质在审

专利信息
申请号: 201910826187.3 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN112447225A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 刘凤鹏;刘冬梅 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: G11C11/4074 分类号: G11C11/4074;G11C29/50
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 张婷
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 提高 系统 dram 可靠性 方法 装置 存储 介质
【说明书】:

发明公开了一种提高系统DRAM可靠性的方法。该方法包括:获得DRAM的表现电压,对所述表现电压的电压值进行可靠性校验;根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值;根据所述电压偏差值对所述DRAM的供电电压进行调整。本发明还公开了一种提高系统DRAM可靠性的装置及计算机可读存储介质。本发明能够实现使系统DRAM具有更高的可靠性。

技术领域

本发明涉及电子器件领域,尤其涉及一种提高系统DRAM可靠性的方法、装置和计算机可读存储介质。

背景技术

DRAM(Dynamic Random Access Memory),即动态随机存取存储器,是一种常见的系统内存。动态随机存取存储器(Dynamic Random Access Memory,DRAM)主要的作用原理是利用内存储的多寡来代表一个(bit)是1还是0。现阶段,随着互联网和智能设备的普及,用户对DRAM的速率、功耗和可靠性提出了更高的要求。

然而,现阶段,DRAM主要是通过在DRAM器件内设置电压耦合/去耦合器件,以改善感测放大器的偏置感测来达到保证DRAM可靠性的目的。然而,这种控制方式改善程度有限,使得DRAM可靠性还是存在不稳定的情况。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种提高系统DRAM可靠性的方法、装置和计算机可读存储介质,旨在实现使系统DRAM具有更高的可靠性。

为实现上述目的,本发明提供一种提高系统DRAM可靠性的方法,所述提高系统DRAM可靠性的方法包括以下步骤:

获得DRAM的表现电压,对所述表现电压的电压值进行可靠性校验;

根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值;

根据所述电压偏差值对所述DRAM的供电电压进行调整。

可选地,所述根据所述电压偏差值对所述DRAM的供电电压进行调整的步骤包括:

在对所述DRAM的供电电压进行调整后,重新对所述表现电压的电压值进行可靠性校验;

若校验结果是失败,则返回步骤:根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的电压偏差值。

可选地,所述根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值的步骤包括:

若所述校验结果是失败,则对所述供电电压的电压测试值增加一个预设电压增量值,获得新的供电电压的电压测试值。

可选地,所述根据可靠性校验的验证结果计算DRAM理想模型下的供电电压的电压偏差值的步骤还包括:

若所述校验结果是成功,则对所述供电电压的电压测试值减少一个预设电压减少值,获得新的供电电压的电压测试值。

可选地,所述提高系统DRAM可靠性的方法还包括:

获得DRAM的供电电容值,按照预设规则调整DRAM的供电电容值获得调整后的DRAM电容值,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压大于或等于预设门限电压。

可选地,所述获得DRAM的供电电容值,按照预设规则调整DRAM的供电电容值获得调整后的DRAM电容值,直到调整后的DRAM电容对应的表现电压大于或等于预设门限电压的步骤包括:

根据所述电压偏差值确定所述DRAM的供电电压值是否变化;

若所述DRAM的供电电压值变化,则将所述DRAM的电容值减少一个预设电容减少值,获得调整后的电容测试值,并对调整后的电容进行可靠性校验;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中兴通讯股份有限公司,未经中兴通讯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910826187.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top