[发明专利]基片处理装置和吹扫方法

权利要求书

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：

承载器保管架，其载置并保管收纳基片的承载器；

气体供给部，其对载置于所述承载器保管架的所述承载器内供给非活性气体；和

控制部，其基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对所述承载器内供给所述非活性气体。

2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

所述承载器信息包括承载器类别、承载器制造商中至少任意者。

3.如权利要求1或2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述基片信息包括基片的有无、基片的个数、基片的使用状况中至少任意者。

4.如权利要求1至3中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部在对所述承载器内供给所述非活性气体时，控制所述气体供给部以使得对所述承载器内间歇性地供给所述非活性气体。

5.如权利要求1至4中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

具有测量所述承载器的内部与外部之间的压力差的差压计，

所述控制部在由所述差压计测量的所述压力差成为了规定的阈值以下时，控制所述气体供给部以对所述承载器内供给所述非活性气体。

6.一种基片处理装置，其特征在于，包括：

承载器输送区域，其能够送入送出收纳基片的承载器；

晶片输送区域，其对被送入到所述承载器输送区域的承载器内的基片进行输送而将其送入处理炉；和

控制部，

在所述承载器输送区域设置有：载置并保管承载器的承载器保管架；承载器载置台，其在将承载器内的基片输送到所述晶片输送区域时载置承载器；以及气体供给部，其对载置于所述承载器保管架和所述承载器载置台的所述承载器内供给非活性气体，

所述控制部基于承载器信息、基片信息中至少任意者，控制是否对载置于所述承载器保管架的承载器内供给非活性气体，并且基于在载置于所述承载器载置台的承载器是否为在所述承载器保管架中被供给了非活性气体的承载器，控制对该承载器供给非活性气体的时间。

7.一种吹扫方法，其特征在于，包括：

将收纳基片的承载器载置在承载器保管架的步骤；

基于承载器信息、基片信息中至少任意者，判断是否对所述承载器内供给非活性气体的步骤；和

在所述判断的步骤中判断为供给非活性气体时，对载置于所述承载器保管架的所述承载器内供给非活性气体的步骤。