[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法在审
申请号: | 201910835354.0 | 申请日: | 2019-09-05 |
公开(公告)号: | CN110890292A | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 森秀树;古矢正明;小林信雄 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;黄纶伟 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 以及 方法 | ||
1.一种基板处理装置,其向基板依次供给多种处理液而对基板进行处理,其中,
该基板处理装置具有:
处理室,其进行所述基板的处理;
旋转工作台,其在所述处理室的内部保持所述基板,并且该旋转工作台被旋转驱动;
处理液供给部,其保持于所述旋转工作台,向旋转状态的所述基板供给处理液;
带有能够开闭的门的多个排气路径,它们使所述处理液的雾从所述处理室向外部流出;以及
门开闭切换构件,其根据所述基板的旋转方向切换所述门的开闭。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述带有能够开闭的门的多个排气路径包括第一排气路径与第二排气路径,
在所述基板沿第一方向旋转的第一状态下,所述门开闭切换构件打开位于与在所述第一状态下产生的回旋气流对置的位置的所述第一排气路径的门,并且关闭所述第二排气路径的门,
在所述基板沿作为与所述第一方向相反的方向的所述基板的第二方向旋转的第二状态下,所述门开闭切换构件打开位于与在所述第二状态下产生的回旋气流对置的位置的所述第二排气路径的门,并且关闭所述第一排气路径的门。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中,
所述第一排气路径与所述第二排气路径分别在隔着所述基板的对角线上配置为一对。
4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置,其中,
所述门开闭切换构件根据所述基板的旋转速度对所述第一排气路径与所述第二排气路径的门的开口部的开口范围进行控制。
5.根据权利要求2或3所述的基板处理装置,其中,
在第一方向的旋转停止后并且在第二方向的旋转开始前,所述门开闭切换构件关闭第一排气路径的门,并且打开第二排气路径的门。
6.一种基板处理方法,向基板依次供给多种处理液而对基板进行处理,其中,
该基板处理方法具有如下工序:
第一工序,打开将第一处理液的雾从所述处理室内向外部排出的第一排气路径的门,使载置于旋转工作台的所述基板向第一方向旋转而供给所述第一处理液;
第二工序,在停止所述第一处理液的供给而使载置于所述旋转工作台的所述基板的第一方向的旋转停止后,使载置于所述旋转工作台的所述基板向与所述第一方向相反的方向的第二方向旋转;以及
第三工序,关闭所述第一排气路径的门,并且打开将第二处理液的雾从所述处理室内向外部排出的第二排气路径的门,向载置于所述旋转工作台的所述基板供给第二处理液。
7.根据权利要求6所述的基板处理方法,其中,
所述第一排气路径与所述第二排气路径分别在隔着所述基板的对角线上配置为一对,所述第一排气路径的门位于与在所述基板沿所述第一方向旋转时产生的回旋气流对置的位置,所述第二排气路径的门位于与在所述基板沿所述第二方向旋转时产生的回旋气流对置的位置。
8.根据权利要求6或7所述的基板处理方法,其中,
所述第一排气路径的门的开口范围根据所述基板沿所述第一方向旋转的旋转速度而改变,所述第二排气路径的门的开口范围根据所述基板沿所述第二方向旋转的旋转速度而改变。
9.根据权利要求6或7所述的基板处理方法,其中,
在使所述基板沿所述第一方向的旋转停止后并且在使所述基板沿所述第二方向的旋转开始前,关闭所述第一排气路径的门,并且打开所述第二排气路径的门。
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