[发明专利]图案描绘装置有效
申请号: | 201910841697.8 | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN110596888B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 铃木智也;加藤正纪;小宫山弘树 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B26/12 | 分类号: | G02B26/12;G03F7/20;G03F7/24;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘金凤;赵燕力 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 描绘 装置 | ||
本发明的光束扫描装置(MD),是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描,其具备:射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系统(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系统(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40),该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
本申请是分案申请,原案的申请号为201680017014.1(PCT/JP2016/058644),申请日为2016年03月18日,发明名称为“光束扫描装置、光束扫描方法、及描绘装置”。
技术领域
本发明是关于以照射于对象物被照射面上的光束的点光进行扫描,以描绘曝光出既定图案的光束扫描装置、光束扫描方法、及描绘装置。
背景技术
一直以来,作为事务用高速印表机,广为人知的是一边将激光光束的点光投射于感光筒等的被照射体(对象物)、一边藉由旋转多面镜沿主扫描线进行点光的一维方向主扫描,并使被照射体往与主扫描线方向正交的副扫描方向移动,以在被照射体上描绘出所欲的图案及图像(文字、图形、照片等)。
于特开平8-11348号公报中,揭示一种用以调整光束的主扫描线的倾斜的光束扫描装置。特开平8-11348号公报中记载的光束扫描装置,具备往光束的照射方向倾斜的板片、与载置在板片上的光学单元,此板片被载置在本体上。藉由使板片相对本体往主扫描方向旋转,据以使光学单元旋转以调整主扫描线的倾斜。由于此调整,主扫描线的中点的两侧长度会变得不同,因此再藉由使光学单元相对板片往主扫描方向旋转,据以将主扫描线的中点的两侧长度调整成相等。而扫描线本身的二维位置偏移或主扫描线方向的倍率误差,则以距光学单元的感光体的距离调整或沿主扫描线描绘的写入时机的电性控制来加以修正。又,光学单元,在内部一体的具备射出为进行描绘而经调变的光束的光源、将该光束变为平行光的准直透镜、旋转多面镜、及fθ透镜。
然而,于特开平8-11348号公报,是以远离主扫描线的位置为中心使光学单元旋转,因此为调整主扫描线的倾斜,必须进行多阶段的调整(板片相对本体的旋转调整、光学单元相对板片的旋转调整、光学单元距感光体的距离调整、以及描绘的写入时序的修正等)。尤其是,使用波长400nm以下的紫外线光束的点光,精密描绘最小线幅数μm~数十μm程度的图案的电子元件用光束扫描装置,由于有在图案描绘的进行中微调扫描线倾斜(主扫描线方向相对与副扫描方向正交的方向的倾斜)的情形,因此期望能简单的调整扫描线的倾斜。本件发明的实施形态,即能解决此课题。
发明内容
本发明第1态样的光束扫描装置,一边将来自光源装置的光束的点光投射于对象物的被照射面、一边使该点光于该被照射面上进行一维扫描,其具备:入射光学构件,供来自该光源装置的该光束入射;扫描用偏向构件,使来自该入射光学构件的该光束为进行该一维扫描而偏向;投射光学系统,使经偏向的该光束入射后投射于该被照射面;以及支承架,支承该入射光学构件、该扫描用偏向构件及该投射光学系统,可绕与照射中心轴在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴旋转,该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光的扫描在该被照射面上形成的扫描线上的特定点。
本发明第2态样的一种光束扫描装置,一边将来自光源装置的光束的点光照射于对象物的被照射面上、一边进行该点光于该被照射面上的一维扫描,其具备:入射光学构件,供来自该光源装置的该光束入射;扫描用偏向构件,使来自该入射光学构件的该光束为进行该一维扫描而偏向;投射光学系统,使经偏向的该光束入射后投射于该被照射面;以及像旋转光学系统,设在该被照射面与该投射光学系统之间,使因该点光的扫描而在该被照射面上形成的扫描线绕旋转中心轴旋转,该旋转中心轴与相对该被照射面垂直通过扫描线上的特定点的照射中心轴在既定容许范围内同轴。
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