[发明专利]磁存储器件在审

专利信息
申请号: 201910850336.X 申请日: 2019-09-09
公开(公告)号: CN111192955A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 金基雄;金柱显;吴世忠;皮雄焕 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;G11C11/16
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 杨姗
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁存储器
【权利要求书】:

1.一种磁存储器件,包括:

第一导线,在基板上沿第一方向延伸;

第一磁图案,在所述第一导线上,所述第一磁图案包括具有不同厚度的第一部分和第二部分;以及

第二导电线,在所述第一磁图案上,并且沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸。

2.根据权利要求1所述的磁存储器件,其中:

所述第一磁图案具有第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和所述第二侧壁在所述第一方向上彼此相对,

所述第一部分与所述第一侧壁相邻,并且

所述第二部分与所述第二侧壁相邻。

3.根据权利要求2所述的磁存储器件,其中,所述第一磁图案的底表面是倾斜的。

4.根据权利要求2所述的磁存储器件,其中,所述第一导线具有从所述第一导线的顶表面凹进的凹陷部分,所述第一磁图案的所述第一部分位于所述凹陷部分中,并且所述第一磁图案的所述第二部分位于所述第一导线的所述顶表面上。

5.根据权利要求1所述的磁存储器件,其中:

所述第一磁图案还包括第三部分,

所述第一磁图案具有第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和所述第二侧壁在所述第一方向上彼此相对,

所述第一磁图案的所述第一部分与所述第一侧壁相邻,

所述第一磁图案的所述第三部分与所述第二侧壁相邻,

所述第一磁图案的所述第二部分在所述第一磁图案的所述第一部分和所述第三部分之间,

所述第一磁图案的所述第一部分的厚度等于所述第一磁图案的所述第三部分的厚度,并且

所述第一磁图案的所述第二部分的厚度大于所述第一磁图案的所述第一部分和所述第三部分的厚度。

6.根据权利要求5所述的磁存储器件,其中,所述第一磁图案的下部是渐缩的。

7.根据权利要求1所述的磁存储器件,其中,所述第一导线具有从所述第一导线的顶表面凹进的凹陷部分,所述第一磁图案的所述第二部分在所述凹陷部分中,并且所述凹陷部分的宽度小于所述第一磁图案的宽度。

8.根据权利要求1所述的磁存储器件,其中,所述第一磁图案具有第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和所述第二侧壁在所述第二方向上彼此相对,所述第一磁图案的所述第一部分与所述第一侧壁相邻,并且所述第一磁图案的所述第二部分与所述第二侧壁相邻。

9.根据权利要求8所述的磁存储器件,其中,所述第一磁图案暴露所述第一导线的顶表面的一部分。

10.根据权利要求8所述的磁存储器件,还包括:层间绝缘层,在所述基板上位于所述第一导线的一侧,所述第一磁图案的所述第一部分与所述第一导线竖直重叠,以及所述第一磁图案的所述第二部分与所述层间绝缘层竖直重叠。

11.根据权利要求10所述的磁存储器件,其中,所述第一磁图案的所述第一部分在所述第二方向上的宽度大于所述第一磁图案的所述第二部分在所述第二方向上的宽度。

12.根据权利要求10所述的磁存储器件,其中,所述第一导线的顶表面是倾斜的。

13.根据权利要求1所述的磁存储器件,其中,从截面图的角度,所述第一磁图案是T形、倒L形或梯形。

14.根据权利要求1所述的磁存储器件,还包括:

隧道势垒图案,在所述第一磁图案与所述第二导线之间;

第二磁图案,在所述隧道势垒图案与所述第二导线之间;以及

金属图案,在所述第二磁图案与所述第二导线之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910850336.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top