[发明专利]一种光刻机导正结构在审

专利信息
申请号: 201910866312.3 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN110577074A 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: 赵晓波;王永和;黄微益;钱坤 申请(专利权)人: 上海信耀电子有限公司
主分类号: B65G47/24 分类号: B65G47/24;G03F7/20
代理公司: 31272 上海申新律师事务所 代理人: 沈栋栋
地址: 201800*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 托板 输送机构 输送组件 气缸 传动连接 滚轮轴 电机 转换机构 上表面 穿过 导正结构 电机传动 光刻机 光刻 对准 合格率 保证
【说明书】:

发明公开一种光刻机导正结构,包括:转换机构,所述转换机构包括:托板和第一气缸,所述托板具备X轴方向和Y轴方向,所述第一气缸与所述托板传动连接;第一输送机构,所述第一输送机构包括:一第一电机和若干滚轮轴,若干所述滚轮轴分别与所述第一电机传动连接,所述托板供若干所述滚轮轴的上表面穿过;第二输送机构,所述第二输送机构包括:一第二气缸、一第二电机和若干输送组件,所述第二气缸分别与若干所述输送组件传动连接,所述托板供若干所述输送组件的上表面穿过,所述第二电机分别与若干所述输送组件传动连接。本发明能够保证光刻的对准精度,提高产品的合格率。

技术领域

本发明涉及光刻机定位的技术领域,尤其涉及一种光刻机导正结构。

背景技术

光刻机是半导体产业的关键设备,也被誉为半导体产业皇冠上的明珠。集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的,光刻工艺决定了半导体的线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗,套刻精度的基本含义是指前后两道光刻工序之间彼此图形的对准精度,如果对准的偏差过大,就会之间影响产品良率。

现有技术上,板材在光刻机中定位较难,无法保证光刻的对准精度,导致产品的合格率较低。

发明内容

针对现有的光刻机存在板材定位难的上述问题,现旨在提供一种光刻机导正结构,能够保证光刻的对准精度,提高产品的合格率。

具体技术方案如下:

一种光刻机导正结构,包括:转换机构,所述转换机构包括:托板和第一气缸,所述托板具备X轴方向和Y轴方向,所述第一气缸与所述托板传动连接,所述第一气缸用于驱动所述托板上下移动;

第一输送机构,所述第一输送机构包括:一第一电机和若干滚轮轴,若干所述滚轮轴分别与所述第一电机传动连接,所述托板供若干所述滚轮轴的上表面穿过,若干所述滚轮轴用于输送产品沿X轴方向移动;

第二输送机构,所述第二输送机构包括:一第二气缸、一第二电机和若干输送组件,所述第二气缸分别与若干所述输送组件传动连接,所述第二气缸用于驱动若干所述输送组件上下移动,所述托板供若干所述输送组件的上表面穿过,所述第二电机分别与若干所述输送组件传动连接,所述第二电机用于驱动若干所述输送组件运行,若干所述输送组件用于输送所述产品沿Y轴方向移动。

上述的光刻机导正结构,其中,每一所述滚轮轴均包括:一滚轴和若干滚轮,所述第一电机与所述滚轴传动连接,若干所述滚轮均设于所述滚轴上,若干所述滚轮分别与所述滚轴固定连接,且若干所述滚轮与所述滚轴同轴设置,若干所述滚轮的上表面均处于同一第一平面上,所述托板供若干所述滚轮的上表面穿过,若干所述滚轮用于输送所述产品沿X轴方向移动。

上述的光刻机导正结构,其中,每一所述输送组件均包括:一主动轮、若干从动轮组和一输送带,所述第二电机与所述主动轮传动连接,若干所述从动轮组、所述主动轮均与所述输送带传动连接,若干所述输送带的上表面均处于同一第二平面上,所述托板分别供若干所述输送带的上表面穿过,若干所述输送带用于输送所述产品沿Y轴方向移动。

上述的光刻机导正结构,其中,每一所述从动轮组均包括:三从动轮,一所述从动轮的上表面高于另外两所述从动轮的上表面,三所述从动轮均与所述输送带传动连接。

上述的光刻机导正结构,其中,每一所述输送组件还包括:

一输送带安装板,所述第二气缸与所述输送带安装板传动连接,所述第二气缸用于驱动所述输送组件上下移动;

若干安装架,若干所述安装架均设于所述输送带安装板上,若干所述从动轮、所述主动轮分别与若干所述安装架转动连接。

上述的光刻机导正结构,其中,还包括:

第一挡板,所述第一挡板设于所述托板的上方,所述第一挡板用于限制所述产品在X轴方向上的移动位置;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海信耀电子有限公司,未经上海信耀电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910866312.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top