[发明专利]一种彩膜基板、显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括依次设置的辅助阴极层、光阻层、RGB色阻层、黑色矩阵和玻璃基板，其中所述黑色矩阵正下方区域的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵下的所述光阻层的厚度，所述辅助阴极层设置于所述黑色矩阵区域下方的所述光阻层的下方。

2.一种显示面板，其特征在于，包括依次设置的薄膜晶体管基板、阳极层、平坦层、有机发光层、阴极层和根据权利要求1所述的彩膜基板；其中所述辅助阴极层与所述阴极层相接。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阳极层采用的材料包括铟锡金属氧化物或银金属中的一种。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述平坦层采用的材料为聚酰亚胺薄膜。

5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管基板包括依次设置的基板层、遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏极层和有机层。

6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述源漏极层采用的材料包括钼、铝、钛、铜或铟锡金属氧化物中的一种。

7.一种制备根据权利要求2-6任一项所述的显示面板的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1：提供一薄膜晶体管基板，在所述薄膜晶体管基板上制备阳极层；

步骤S2：在所述阳极层上制备平坦层；

步骤S3：在所述平坦层上制备有机发光层；

步骤S4：在所述有机发光层上制备阴极层，形成薄膜晶体管背板；

步骤S5：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上制备黑色矩阵；

步骤S6：在所述黑色矩阵上制备RGB色阻层；

步骤S7：在所述RGB色阻层上制备光阻层，其中所述黑色矩阵区域上方的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵区域上的所述光阻层的厚度；

步骤S8：在所述黑色矩阵区域上方的所述光阻层的上方制备辅助电极层，形成彩膜基板；

步骤S9：将所述薄膜晶体管背板和所述彩膜基板贴合。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述平坦层是采用化学气相沉积方式制备的。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述光阻层是采用半透光罩技术或两道光罩的方法制备的。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S9是通过封装的方式将所述薄膜晶体管背板和所述彩膜基板贴合。