[发明专利]一种交错式斜孔结构光栅板的制作方法及光栅板有效

专利信息
申请号: 201910869768.5 申请日: 2019-09-16
公开(公告)号: CN110632690B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 岳力挽;毛智彪;顾大公;马潇;许从应 申请(专利权)人: 宁波南大光电材料有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;H01L21/302
代理公司: 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 代理人: 贾振勇
地址: 315800 浙江省宁波市北仑区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 交错 式斜孔 结构 光栅 制作方法
【权利要求书】:

1.一种交错式斜孔结构光栅板的制作方法,其特征在于,包括步骤:

对衬底进行直角刻蚀形成凹槽;

对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角;

在形成所述第一斜角的衬底的凹槽内设置所述第一介质膜形成介质膜凹槽;对形成所述介质膜凹槽的衬底进行研磨及晶圆键合;将完成所述晶圆键合的衬底进行翻转,对介质膜凹槽上层的衬底进行研磨;对研磨后的衬底进行刻蚀,去除所述介质膜凹槽内的所述第一介质膜,形成倒斜角;

对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角,第二斜角对应的第二斜边与第一斜角翻转过后形成的倒斜角对应的倒斜边平行且等长;

将交错排列的光刻图形设置在已形成所述第二斜角的衬底正上方,让所述光刻图形与所述衬底上的图形方向垂直设置,对衬底上的光刻胶进行光刻;

对完成光刻后的图形进行显影,保留形成有所述第二斜角的衬底上与光刻图形位置对应的光刻胶及中间层,通过刻蚀去除未被所述光刻胶及中间层覆盖部分,形成交错式斜台光栅板;

除去形成在所述交错式斜台光栅板上的所述光刻胶及中间层;

在所述交错式斜台光栅板上设置第二介质膜进行全覆盖;

对所述交错式斜台光栅板上表面进行研磨,去除置于交错式斜台上表面的所述第二介质膜;

对研磨后的所述交错式斜台光栅板进行刻蚀,去除所述交错式斜台,形成交错式斜孔结构光栅板。

2.如权利要求1所述的交错式斜孔结构光栅板的制作方法,其特征在于,所述对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角的步骤具体包括:

将光掩膜板对应所述凹槽的位置向所述凹槽的第一侧偏离设置;

对已形成所述凹槽的衬底上的光刻胶进行光刻,并对中间层进行刻蚀,使所述凹槽的第一侧直角区域露出、第二侧直角区域保留所述光刻胶的覆盖;

对所述凹槽的第一侧直角区域进行刻蚀形成所述第一斜角。

3.如权利要求2所述的交错式斜孔结构光栅板的制作方法,其特征在于,所述对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角的步骤具体包括:

将所述光掩膜板对应形成所述倒斜角的衬底的位置向所述衬底的第一侧偏离设置;

对已形成所述倒斜角的衬底上的光刻胶进行光刻,并对中间层进行刻蚀,使形成所述倒斜角的凹槽第一侧直角区域露出、第二侧倒斜角区域保留所述光刻胶的覆盖;

对形成所述倒斜角的凹槽的第一侧直角区域进行刻蚀形成所述第二斜角。

4.如权利要求2所述的交错式斜孔结构光栅板的制作方法,其特征在于,对衬底进行直角刻蚀形成凹槽的步骤具体包括:

将所述光掩膜板设置在所述衬底正上方;

对形成在所述衬底上的光刻胶进行光刻,并对中间层进行刻蚀;

对所述衬底进行所述直角刻蚀形成凹槽。

5.如权利要求2所述的交错式斜孔结构光栅板的制作方法,其特征在于,在将光掩膜板对应所述凹槽的位置向所述凹槽的第一侧偏离设置的步骤之前,还包括步骤:

除去已形成所述凹槽的衬底上的所述光刻胶及中间层;

对已形成所述凹槽的衬底重新旋涂光刻胶及中间层进行完整覆盖。

6.一种光栅板,其特征在于,包括权利要求1-5任一所述的交错式斜孔结构光栅板的制作方法制作的光栅板。

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