[发明专利]一种交错式斜孔结构光栅板的制作方法及光栅板有效

专利信息
申请号: 201910869768.5 申请日: 2019-09-16
公开(公告)号: CN110632690B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 岳力挽;毛智彪;顾大公;马潇;许从应 申请(专利权)人: 宁波南大光电材料有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;H01L21/302
代理公司: 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 代理人: 贾振勇
地址: 315800 浙江省宁波市北仑区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 交错 式斜孔 结构 光栅 制作方法
【说明书】:

发明适用于光学全息成像技术领域,提供了一种交错式斜孔结构光栅板的制作方法及光栅板,其中,方法包括:对衬底进行直角刻蚀形成凹槽;对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角;在形成所述第一斜角的衬底上设置第一介质膜并进行晶圆键合形成倒斜角;对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角;将光刻图形与形成所述第二斜角的衬底结合进行光刻,形成交错式斜台光栅板;在所述交错式斜台光栅板上设置第二介质膜,通过刻蚀形成交错式斜孔结构光栅板。本发明能够增强光学全息成像的效果,且通过投影式光刻方式进行制作交错式斜孔结构光栅板,能够加快制作速度,提高生产效率。

技术领域

本发明属于光学全息成像技术领域,尤其涉及一种交错式斜孔结构光栅板的制作方法及光栅板。

背景技术

光栅板是具有空间周期性结构的精密光学元件。能够自由着色、无嗅无味无毒,具有刚性、绝缘、印刷性好等优点。通过利用光的衍射原理对复色光进行分解,实现被拍物体在相位以及振幅上的转换,人类的大脑会通过双眼的视觉差将不同角度的几幅画面进行加工处理,形成由深度的图像。广泛地应用于宾馆、酒店、商场、体育馆、机场候机楼、候车亭等户内广告灯箱及婚纱影楼、人物写真、装饰画类。

在现有技术中,在集成电路芯片制造上,通过浸没式光刻机光刻,将光刻胶进行曝光处理后结合刻蚀处理需要去除的部分,能制造出对称的齿型栅板,例如直角型、倒斜角型或者斜角型,对称型的光栅板在进行光学全息成像时,所成的像会受到对称图形的限制。对于非对称的斜孔或者斜齿形光栅,现有技术都是采用电子束直写的方法,写一片8寸晶圆一般需要2~3个小时。可见,在现有技术中,存在非对称型光栅板制造速度慢,而对称型的光栅板在进行光学全息成像时成像效果差的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种利用投影式光刻机制作交错式斜孔结构光栅板的方法,旨在解决非对称光栅板制作速度慢,而对称型光栅板在进行光学全息成像时成像效果差的问题。

本发明实施例是这样实现的,提供一种交错式斜孔结构光栅板的制作方法,包括步骤:

对衬底进行直角刻蚀形成凹槽;

对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角;

在形成所述第一斜角的衬底上设置第一介质膜并进行晶圆键合形成倒斜角;

对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角;

将光刻图形与形成所述第二斜角的衬底结合进行光刻,形成交错式斜台光栅板;

在所述交错式斜台光栅板上设置第二介质膜,通过刻蚀形成交错式斜孔结构光栅板。

更进一步地,所述对所述凹槽的一侧进行斜角刻蚀形成第一斜角的步骤具体包括:

将光掩膜板对应所述凹槽的位置向所述凹槽的第一侧偏离设置;

对已形成所述凹槽的衬底上的光刻胶进行光刻,并对中间层进行刻蚀,使所述凹槽的第一侧直角区域露出、第二侧直角区域保留所述光刻胶的覆盖;

对所述凹槽的第一侧直角区域进行刻蚀形成所述第一斜角。

更进一步地,所述在形成所述第一斜角的衬底上设置第一介质膜并进行晶圆键合形成倒斜角的步骤具体包括:

在形成所述第一斜角的衬底的凹槽内设置所述第一介质膜形成介质膜凹槽;

对形成所述介质膜凹槽的衬底进行研磨及晶圆键合;

将完成所述晶圆键合的衬底进行翻转,对介质膜凹槽上层的衬底进行研磨;

对研磨后的衬底进行刻蚀,去除所述介质膜凹槽内的所述第一介质膜,形成倒斜角。

更进一步地,所述对形成所述倒斜角的衬底进行斜角刻蚀形成第二斜角的步骤具体包括:

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