[发明专利]一种去除真菌中细菌污染的方法

说明书

本发明公开了一种去除真菌中细菌污染的方法。该方法包括以下步骤：(1)将备好的真菌培养基高温灭菌后倒入无菌培养皿中，带培养基凝固后，在培养基平板上切割出一个以上小孔；(2)挑取合适大小的样品置于切割出的小孔内；(3)盖上无菌盖玻片，轻压盖玻片四周使其与培养基紧密接触，保证培养基和盖玻片之间不留有气泡；(4)将步骤(3)得到的培养基放入恒温恒湿培养箱中培养；(5)挑取盖玻片周围新长出的真菌菌丝，重新接种到新的真菌培养基上培养得到真菌菌落。本发明细菌去除效果优、无反弹、适用性广、操作简单、工作量小、实验周期短。

技术领域

本发明属于微生物技术领域，特别是涉及一种去除真菌中细菌污染的方法。

背景技术

在真菌培养过程中，包括食用真菌栽培、有益真菌菌株的保存、培养和利用以及病原真菌的分离、培养和研究等过程中，杂菌的污染无处不在，造成污染的常见微生物包括细菌、真菌、支原体和螨虫等。真菌如霉菌和酵母菌在培养条件下生长很快，它们所引起的污染很容易观察到，菌种也可根据它们在培养基上的菌落特征和显微观察的方法鉴定出来，而细菌污染存在一定的潜伏期，甚至在几代培养后才表现出来，故细菌的去除显得更为棘手和重要。

细菌性污染多为黏液状菌斑，主要由芽孢杆菌、大肠杆菌等细菌引起，根据细菌存在部位又分为表面细菌污染和内生细菌污染。表面细菌污染常在接种1～2天后表现出来，而内生细菌引起的污染，在刚接种时表现不明显，随着培养转接次数的增加，菌量逐渐累积，才在培养基上显现出来。当前，所用消除细菌染的方法主要是在培养基上使用抗生素，同时根据具体真菌菌种与细菌污染的生长速度进行分离和污染去除，都有一定效果。另外，也有报道称培养基中有机物的存在是污染产生的重要原因，故去除培养基有机物是减少污染的一条途径。虽然目前可以通过抗生素和减少有机物等一些方法减少污染，但是，对于一些细菌的去除，这些处理方法多多少少都有着各自的一些不足。

抗生素常作为预防污染作用而加入到培养基中,或者在己鉴定出细菌污染的情况下,用于抑制细菌生长或消灭细菌，但是，由于细菌和真菌种类的多样性，抗生素使用的种类和浓度变化很大。另外，抗生素制菌谱不一，尚没有一种抗生素对所有的细菌都有效，而且药效期短，抗生素一般不稳定，遇酸、碱或加热都易分解而失去活性，单一抗生素抑菌,易产生抗药性，一旦停止使用，污染率又显著上升，高浓度的抗生素会影响植物的生长。鉴于此，抗生素只能作为一种辅助防止污染的措施。当然，也有人为了抑菌效果更好会添加双抗，即抗革兰氏阳性菌和抗革兰氏阴性菌两种抗生素，但是，双抗的抑菌效果有时候并不明显。总结的说，抗生素对于细菌的抑制缺少稳定性和高效性。在培养基中减少有机物来抑制细菌的生长这一方法，在一定程度上也会对真菌或者我们所需要的菌株产生影响，所以这一方法并非优选。

由此可见，现在急需一种高效稳定的方法来抑制或去除细菌的生长，为减少生物实验中的细菌污染奠定更坚实的基础。

发明内容

本发明的目的是针对目前缺乏高效稳定的细菌去除体系，受抗生素限制很大，且抑菌效果不明显，提供去除真菌中细菌污染的方法，尤其是固体培养基平板培养条件下真菌中细菌污染的去除。

为了达到上述的目的，本发明采取以下技术方案：

一种去除真菌中细菌污染的方法，包括以下步骤：

(1)将备好的真菌培养基高温灭菌后倒入无菌培养皿中，带培养基凝固后，在培养基平板上切割出一个以上小孔；

(2)挑取合适大小的样品置于切割出的小孔内；

(3)盖上无菌盖玻片，轻压盖玻片四周使其与培养基紧密接触，保证培养基和盖玻片之间不留有气泡；

(4)将步骤(3)得到的培养基放入恒温恒湿培养箱中培养；

(5)挑取盖玻片周围新长出的真菌菌丝，重新接种到新的真菌培养基上培养得到真菌菌落。