[发明专利]一种接地结构及具有该接地结构的化学气相沉积设备有效
申请号: | 201910872497.9 | 申请日: | 2019-09-16 |
公开(公告)号: | CN110656321B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 高德龙 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;H01R4/66 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 彭绪坤 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 接地 结构 具有 化学 沉积 设备 | ||
1.一种接地结构,用于化学气相沉积反应室中基座的接地连接,其特征在于,所述接地结构包括沿垂直于所述基座方向设置的接地导杆、及固定于所述基座上且与所述基座电性连接的中间连接件;所述中间连接件远离所述基座一端与所述接地导杆滑动电性连接;
所述中间连接件包括与基座连接的第一连接部、及由第一连接部向所述接地导杆方向延伸形成的第二连接部,所述第二连接部中部设有与所述接地导杆滑动连接的滑套。
2.根据权利要求1所述的接地结构,其特征在于,所述第一连接部上设有多个连接孔,所述第一连接部与所述基座在所述连接孔处通过螺栓固定连接。
3.根据权利要求1所述的接地结构,其特征在于,所述第一连接部垂直于所述第二连接部。
4.根据权利要求1所述的接地结构,其特征在于,所述接地导杆靠近所述基座一端设有限位块。
5.根据权利要求4所述的接地结构,其特征在于,所述接地导杆远离所述基座一端设有接地座。
6.根据权利要求5所述的接地结构,其特征在于,所述接地座上设有U型卡槽。
7.根据权利要求1所述的接地结构,其特征在于,所述接地导杆和中间连接件的材料为6061型铝合金。
8.一种化学气相沉积设备,其特征在于,包括反应室、设于反应室内用于承载基板的基座、以及多个用于基座接地连接的接地结构;
所述接地结构包括沿垂直于所述基座方向设置的接地导杆、及固定于所述基座上且与所述基座电性连接的中间连接件;所述中间连接件远离所述基座一端与所述接地导杆滑动电性连接;
所述中间连接件包括与基座连接的第一连接部、及由第一连接部向所述接地导杆方向延伸形成的第二连接部,所述第二连接部中部设有与所述接地导杆滑动连接的滑套。
9.根据权利要求8所述的化学气相沉积设备,其特征在于,各所述接地结构中的接地导杆均设置于绕所述基座在所述反应室底部投影的周边区域内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的