[发明专利]氯硅烷净化装置及其净化方法

说明书

本发明涉及氯硅烷的净化领域，公开了一种氯硅烷净化装置及其净化方法，其中氯硅烷净化装置，包括存储器、过滤器、废液收集器以及汽化器，所述存储出口与所述过滤进口连通，所述过滤出口与所述原料进口连通，所述过滤排放口和残液排放口均与所述废液进口连通；所述汽化器设置有汽化腔和热工质通道，所述汽化腔与所述热工质通道相隔绝，所述汽化腔的进口和出口分别为所述原料进口和原料出口，所述热工质通道的进口和出口分别为所述热工质进口和热工质出口，所述残液排放口与所述汽化腔相通。净化提存氯硅烷原料。

技术领域

本发明涉及氯硅烷的净化领域，特别是一种氯硅烷净化装置及其净化方法。

背景技术

目前气相二氧化硅生产用的氯硅烷原材料主要有四氯化硅、甲基三氯硅烷、甲基氯硅烷、三氯氢硅、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷，以及他们两种或者多种的混合物。其中最主要原料是四氯化硅和甲基三氯硅烷，他们分别作为多晶硅和有机硅的副产物存在，其中含有一定量金属杂质；在存储或者运输过程中，也容易发生水解，产生悬浮物杂质；同时氯硅烷中也含有一定量的高沸物杂质；如果这些金属杂质或是悬浮杂质随着氯硅烷进入到原料进入到气相二氧化硅合成装置，导致生产出来的气相二氧化硅外观存在较多的黑点、白点杂质，直接影响到产品质量。

发明内容

本发明的目的在于改善现有技术的缺点，提供一种氯硅烷净化装置及其净化方法，净化提存氯硅烷原料。

其技术方案如下：

氯硅烷净化装置，包括存储器、过滤器、废液收集器以及汽化器，所述存储器包括存储进口和存储出口，所述过滤器包括过滤进口、过滤出口和过滤排放口，所述废液收集器包括废液进口，所述汽化器包括原料进口、原料出口、热工质进口、热工质出口和残液排放口；所述存储出口与所述过滤进口连通，所述过滤出口与所述原料进口连通，所述过滤排放口和残液排放口均与所述废液进口连通；所述汽化器设置有汽化腔和热工质通道，所述汽化腔与所述热工质通道相隔绝，所述汽化腔的进口和出口分别为所述原料进口和原料出口，所述热工质通道的进口和出口分别为所述热工质进口和热工质出口，所述残液排放口与所述汽化腔相通。

需要对氯硅烷净化时，将氮气和氯硅烷原料经过存储进口输入，由于氯硅烷易反应，所以利用氮气的惰性对氯硅烷进行保护作用，氯硅烷原料存储在存储器内；然后通过存储出口流出，再通过过滤进口进入到过滤器，氯硅烷原料在过滤器内进行过滤，将大部分杂质以及悬浮物等去除；氯硅烷原料过滤后经过滤出口流出，然后再通过原料进口进入到汽化器内，此时，热工质经过热工质进口流入热工质通道内，由于热工质通道与汽化腔相隔绝，所以热工质和氯硅烷原料分别在热工质通道和汽化腔内，热工质通过热量传导，加热氯硅烷原料，氯硅烷原料进而汽化，由于与杂质沸点不同，去除部分高沸物，所以经过汽化后的氯硅烷经过原料出口流出后，纯度提高，达到净化目的。而且净化后的氯硅烷直接进入到二氧化硅合成装置内进行反应，避免了第二次存储以及运输。而在过滤器内过滤的杂质通过过滤排放口排出，通过废液进口流进废液收集器，在汽化器内未汽化的氯硅烷原料以及其余杂质等，经过残液排放口排出，通过废液进口流进废液收集器。

所述存储进口设置有存储控制阀，所述过滤进口设置有第一控制阀，所述过滤出口设置有第二控制阀，所述过滤排放口设置有反洗控制阀，所述热工质进口设置有热工质控制阀，所述残液排放口设置有残液控制阀。存储进口设置的存储控制阀，保证氮气以及氯硅烷原料进入到存储器后进行隔绝存储，防止泄露，过滤进口设置的第一控制阀以及过滤出口设置的第二控制阀可以控制氯硅烷原料的流入，还能起到防倒流的作用，过滤排放口设置的反洗控制阀可以对过滤器进行一个反冲洗作用，从冲洗后的残液还能流入废液收集器内收集。

所述存储器和所述废液收集器均设置有压力安全阀。因为在净化过程中可能会发生管道堵塞问题，所以在存储器以及废液收集器内设置压力安全阀，一旦工作压力超过预设的安全值，压力安全阀开启，实现泄压报警作用。