[发明专利]一种盆花芍药的矮化栽培技术在审
| 申请号： | 201910875859.X | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN110476766A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 于晓南;董志君;张建军;范永明;朱炜;陈莉祺;程堂仁;张启翔 | 申请（专利权）人： | 北京林业大学 |
| 主分类号： | A01G22/60 | 分类号： | A01G22/60;A01G24/15;A01G24/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷施 温室栽培 植物生长延缓剂 观赏性状表现 矮化栽培 操作便利 管理流程 盆栽芍药 园林应用 重要意义 盆栽 植株 盆栽苗 芍药 矮化 盆花 冷藏 观赏 拓展 | ||
1.一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，包括如下步骤：
(1)盆栽苗的选择、准备、处理及冷藏；
(2)温室栽培及喷施植物生长延缓剂。
2.根据权利要求1所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，步骤(1)中所述盆栽苗品种为2-5年生分株苗，植株生长健壮，株型紧凑，成花率高，花型端庄，花色艳丽。
3.根据权利要求1或2所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，步骤(1)所述盆栽苗准备、处理，具体为，9-10月份将植株根部掘起、分株，将分株苗浸泡在80％多菌灵800倍液中15分钟进行消毒处理，取出后在阴凉处晾2-3天至根系变软后上盆。
4.根据权利要求3所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，分株时每株保留7-8个芽。
5.根据权利要求1-4所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，选择较深较广的花盆，盆栽基质配比为泥炭：蛭石：珍珠岩＝3:1:1，栽培深度为芽顶至基质表面3-4cm。
6.根据权利要求1-5所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，步骤(1)所述盆栽苗的冷藏，具体为，将上述基质干透后的盆栽苗放入冷库进行冷藏，2-4℃，冷藏5周。
7.根据权利要求1-6所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，步骤(2)所述盆栽苗的温室栽培的具体操作为，盆栽苗由冷库移入温室后室温分三个阶段逐步加温；室内光照长度在12小时以上，光照强度为3000-5000lx；温室内空气湿度保持在60％-80％范围内；基质每隔15天左右浇一次透水；以速效肥水溶液进行浇灌，每10天进行一次，直至开花，施肥后及时松土。
8.根据权利要求7所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，所述室内加温的具体操作为，第一阶段，白天12-15℃，晚上7-10℃，处理10天；第二阶段，白天15-20℃，晚上11-14℃，处理15天；第三阶段，白天20-28℃，晚上14-18℃，处理20-25天。
9.根据权利要求1-8所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，步骤(2)所述喷施植物生长延缓剂，具体为，采用叶面喷施,每盆每次500mL，喷施至全部叶片正反面喷湿润而不下滴即可，每隔10天处理一次，共喷施4次；所述喷施待植株长至5-15cm时开始处理。
10.根据权利要求1-9所述的一种盆花芍药的矮化栽培技术，其特征在于，所述生长延缓剂采用300mg/L的多效唑溶液。
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